特許
J-GLOBAL ID:200903052002889612

位置検出装置、回転体検出制御装置、回転体走行装置および画像形成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴木 均
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-345052
公開番号(公開出願番号):特開2008-158110
出願日: 2006年12月21日
公開日(公表日): 2008年07月10日
要約:
【課題】スケールパターンを撮像素子で受光した受光光量を比較することによってスケールの移動方向と直行する方向の位置検出も同時に行う事で、高速、高精度で安定した位置計測を行なうことができる位置検出装置を提供する。【解決手段】所定の反射率あるいは透過率の変化によるマークパターンが連続して形成されたスケールのマークパターンを撮像素子によって読み取ることで、前記スケールの移動位置を検出する位置検出装置であって、前記スケールのマークパターンが、前記スケールの主たる主移動方向に連続して配設された略同一のマークパターンにより構成され、前記マークパターンが、前記撮像素子に投影される状態で、前記主移動方向に直交する副移動方向の一部が投影されるように配設されている。【選択図】図6
請求項(抜粋):
所定の反射率あるいは透過率の変化によるマークパターンが連続して形成されたスケールのマークパターンを撮像素子によって読み取ることで、前記スケールの移動位置を検出する位置検出装置であって、 前記スケールのマークパターンが、前記スケールの主たる移動方向に連続して配設された略同一のマークパターンにより構成され、前記マークパターンが、前記撮像素子に投影される状態で、前記主移動方向に直交する副移動方向の一部が投影されるように配設されていることを特徴とする位置検出装置。
IPC (3件):
G03G 15/01 ,  G03G 15/00 ,  G03G 21/14
FI (3件):
G03G15/01 Y ,  G03G15/00 303 ,  G03G21/00 372
Fターム (30件):
2H027DA09 ,  2H027DE02 ,  2H027DE07 ,  2H027DE10 ,  2H027EB04 ,  2H027EC03 ,  2H027EC06 ,  2H027EC07 ,  2H027ED06 ,  2H027EE02 ,  2H300EB04 ,  2H300EB07 ,  2H300EB12 ,  2H300EC05 ,  2H300EC15 ,  2H300EF08 ,  2H300EH16 ,  2H300EJ09 ,  2H300EJ47 ,  2H300FF05 ,  2H300GG22 ,  2H300GG23 ,  2H300HH23 ,  2H300HH32 ,  2H300QQ13 ,  2H300RR34 ,  2H300RR38 ,  2H300RR39 ,  2H300RR40 ,  2H300RR50
引用特許:
出願人引用 (8件)
  • 変位測定装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2002-373588   出願人:横河電機株式会社
  • 変位測定装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2002-276593   出願人:横河電機株式会社
  • ポインティングデバイス
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2002-186969   出願人:マイクロソフトコーポレイション
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審査官引用 (14件)
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