光学表面の実際形状の所望形状からの偏差を測定する方法および装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：杉村憲司 , 澤田達也 , 下地健一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-521168
公開番号（公開出願番号）：特表2009-544953
出願日： 2007年07月26日
公開日（公表日）： 2009年12月17日
要約：

本発明は光学表面の実際形状の所望形状からの偏差を測定する方法および装置に関する。光学表面(12;103)の所望形状から実際の形状の偏差を決定する方法は、以下のステップを含む。入射電磁測定波(20; 113)を発生させるステップと、到来波の波面を再形成する様に構成されている2つの回折構造(47、49; 145、146、141、143)を備えるステップと、入射測定波(20; 113) を少なくとも一つの被較正回折構造(47, 49; 145, 146, 141, 143) に放射することで、2つの回折構造(47、49; 145、146、141、143)の少なくとも一つを較正して、該較正済の回折構造と少なくとも一つの被較正回折構造(47, 49; 145, 146, 141, 143)との相互作用の後に、測定波の(20; 113)所望波面からの実際波面の較正偏差を決定するステップと、前記2つの回折構造(47; 49; 145, 146, 141, 143)を前記入射測定波(20; 113) の光路に位置させて、前記測定波の各光線を両方の前記回折構造(47; 49; 145, 146, 141, 143)を通すステップと、前記2つの回折構造(47; 49; 145, 146, 141, 143) により前記入射測定波(20; 113)を再形成して、前記光学表面の前記所望形状に適合した適合済測定波(64; 114)を形成するステップと、前記光学表面(12; 103) を、前記適合済測定波(64, 114)の前記光路に配置し、前記適合済測定波(64; 114)と前記光学表面(12; 103)とを相互作用させ、その後に前記適合済測定波(64; 114)の前記波面を測定するステップとを含む。

請求項（抜粋）：

光学表面が非球面の所望形状を有しており、かつ、前記光学表面の実際形状の前記所望形状からの偏差は、最大0.2nmである、光学表面を有する光学素子。

IPC (2件)：

G01B 11/24 , G02B 5/18

FI (2件)：

G01B11/24 D , G02B5/18

Fターム (15件)：

2F065AA51 , 2F065AA53 , 2F065CC22 , 2F065FF48 , 2F065FF61 , 2F065HH00 , 2F065LL42 , 2F065QQ08 , 2F065QQ25 , 2F065RR03 , 2H249AA03 , 2H249AA13 , 2H249AA31 , 2H249AA55 , 2H249AA65

引用特許：

審査官引用 (9件)

非球面形状測定装置および測定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-175125 出願人：株式会社ニコン
ホログラム、及びホログラムを用いた光学素子の製造方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2007-551625 出願人：カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー
光学素子の製造方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2007-511876 出願人：カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー

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