特許
J-GLOBAL ID：200903052488103780

感光性組成物、該組成物を用いたパターン形成方法及び該組成物に用いる化合物

発明者：
和田 健二

和田 健二 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-064608
公開番号（公開出願番号）：特開2007-240978
出願日： 2006年03月09日
公開日（公表日）： 2007年09月20日
要約：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、パターン形状、パターン倒れが良好で、EUV光露光においても感度、溶解コントラストに優れ、さらには液浸露光適性を有する感光性組成物、該組成物に添加する活性光線又は放射線の照射により特定の構造の有機酸を発生する化合物、及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により特定の構造の有機酸を発生する化合物、該化合物を含有する感光性組成物、及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により下記一般式(I)で表される有機酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/038 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/039 501 ,  G03F7/038 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (10件)：
2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CB52 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12
引用特許：
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (4件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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