特許
J-GLOBAL ID：200903052750669889

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
白川 浩司

白川 浩司 について

, 
佐々木 知也

佐々木 知也 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-175091
公開番号（公開出願番号）：特開2005-352337
出願日： 2004年06月14日
公開日（公表日）： 2005年12月22日
要約：
【課題】高感度、高解像性、良好なパターン形状及び良好な真空中PED特性を同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)アルカリ水溶液に不溶又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶性となる樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)有機塩基性化合物を含有するポジ型レジスト組成物において、(A)成分の樹脂として、下記一般式(1)で表される構造の繰り返し単位を有する樹脂(A1)と、それ以外の樹脂(A2)とを含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)アルカリ現像液に不溶又は難溶性で、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる性質を有する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び (C)有機塩基性化合物 を含有するポジ型レジスト組成物において、(A)成分の樹脂として、下記一般式(I)で示される繰り返し単位を少なくとも1種類有する樹脂(A1)と、それ以外の樹脂(A2)とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F7/039 ,  C08F12/24 ,  G03F7/004 ,  G03F7/033 ,  H01L21/027
FI (5件)：
G03F7/039 601 ,  C08F12/24 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 502R
Fターム (37件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA04P ,  4J100BA22P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (7件)
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