特許
J-GLOBAL ID：200903053985990443

化学増幅型ポジ型レジスト組成物

発明者：
上谷 保則

上谷 保則 について

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藤島 浩晃

藤島 浩晃 について

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高田 佳幸

高田 佳幸 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-364726
公開番号（公開出願番号）：特開2001-183836
出願日： 1999年12月22日
公開日（公表日）： 2001年07月06日
要約：
【要約】【課題】 感度、解像度、基板への接着性などの各種レジスト性能が良好であるとともに、特にアルカリ現像液に対する濡れ性に優れた化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 下式(I)に相当する(メタ)アクリル酸ジヒドロキシ-1-アダマンチルの重合単位及び酸に不安定な基を持つ重合単位、例えば、下式(II)で示される(メタ)アクリル酸2-アルキル-2-アダマンチルの重合単位、を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる重合体を主体とする樹脂、並びに酸発生剤を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。式中、R1 及びR2 はそれぞれ水素又はメチルを表し、R3 はアルキルを表す。
請求項（抜粋）：
(メタ)アクリル酸ジヒドロキシ-1-アダマンチルの重合単位及び酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる重合体を主体とする樹脂、並びに酸発生剤を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (14件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41
引用特許：
審査官引用 (9件)
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