特許
J-GLOBAL ID：200903055442139509
パラメータ変動性分析による焦点の中心の決定
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
廣江 武典
, 武川 隆宣
, ▲高▼荒 新一
, 中村 繁元
, 西尾 務
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-509890
公開番号（公開出願番号）：特表2006-523039
出願日： 2004年04月09日
公開日（公表日）： 2006年10月05日
要約：
【課題】焦点の中心およびリソグラフィ器具のプロセス制御を決定する方法を提供する。【解決手段】複数の異なる焦点設定フィールド内に配置されている複数の回折構造から回折符号が得られ、直接的な分析またはライブラリとの比較によって、それぞれのフィールドを持つ回折符号の変動性が決定される。変動または均一性は、RMS差異または強度範囲によるように標準的なずれ、または理論的回折構造のライブラリの選択された特性の値の範囲、または回折構造自体の変動性または均一性をはじめとするどのような測定値によってでも表わすことができる。
請求項（抜粋）：
複数のフィールドを備える基板を提供する工程であり、それぞれのフィールドは異なる焦点値で露光されており、基板はまたリソグラフィ装置を利用してリソグラフィプロセスによって前記基板上に形成されている複数の回折構造を備えている工程、
放射源ベースの器具によって複数のフィールドにある前記複数の回折構造のそれぞれについて回折符号を測定する工程、
それぞれのフィールドについてそのフィールド内に配置されている複数の回折構造から得られた測定された回折符号の変動性を決定する工程、および
フィールドに関連づけられた変動性を比較してリソグラフィ装置の所望のパラメータを決定する工程を含むことを特徴とするリソグラフィ装置に関連するパラメータを測定方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 514E
, G03F7/20 521
5F046AA17
, 5F046DA14
, 5F046DB04
, 5F046EA07
審査官引用 (14件)
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特許第6429930号
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特許第6501534号
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特許第6429930号
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