特許
J-GLOBAL ID:200903056981704054
半導体発光素子
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山本 秀策
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-222143
公開番号(公開出願番号):特開2000-058908
出願日: 1998年08月05日
公開日(公表日): 2000年02月25日
要約:
【要約】【課題】 発光効率及び信頼性が大きく改善されていると共に製造歩留まりが大幅に改善された半導体発光素子を提供する。【解決手段】 半導体発光素子が、第1導電型の半導体基板と、該半導体基板の上に形成された、少なくとも第1導電型のクラッド層、活性層、及び第2導電型のクラッド層を含む発光部と、該発光部の上に形成された所定のパターンを有する第1導電型の電流阻止層と、該電流阻止層を覆うように形成された第2導電型の電流拡散層と、該基板の裏面及び該電流拡散層の上にそれぞれ形成された、第1導電型の第1電極及び第2導電型の第2電極と、を備えており、該電流阻止層がGa<SB>1-x</SB>In<SB>x</SB>P(0<x<1)層である。
請求項(抜粋):
第1導電型の半導体基板と、該半導体基板の上に形成された、少なくとも第1導電型のクラッド層、活性層、及び第2導電型のクラッド層を含む発光部と、該発光部の上に形成された所定のパターンを有する第1導電型の電流阻止層と、該電流阻止層を覆うように形成された第2導電型の電流拡散層と、該基板の裏面及び該電流拡散層の上にそれぞれ形成された、第1導電型の第1電極及び第2導電型の第2電極と、を備えており、該電流阻止層がGa<SB>1-x</SB>In<SB>x</SB>P(0<x<1)層である、半導体発光素子。
Fターム (7件):
5F041CA34
, 5F041CA37
, 5F041CA40
, 5F041CA56
, 5F041CA57
, 5F041CA60
, 5F041CB03
引用特許:
審査官引用 (14件)
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特開平4-212479
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半導体発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-274702
出願人:オムロン株式会社
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半導体発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-333890
出願人:株式会社東芝
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半導体発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-228364
出願人:シャープ株式会社
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特開平4-229665
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化合物半導体素子及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-315284
出願人:シャープ株式会社
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半導体発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-027368
出願人:三菱化学株式会社
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半導体発光素子とその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-103402
出願人:富士通株式会社
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面型発光素子とその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-103401
出願人:富士通株式会社
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p型半導体膜および半導体素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-332199
出願人:株式会社東芝
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半導体発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平2-400287
出願人:日本電気株式会社
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特開昭61-107782
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特開昭63-150982
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特開昭63-164384
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