特許
J-GLOBAL ID：200903059231980849

プラズマ処理装置,プラズマ処理システムおよびこれらの性能確認システム,検査方法

発明者：
仲野 陽

仲野 陽 について

, 
大見 忠弘

大見 忠弘 について


出願人/特許権者：
アルプス電気株式会社

アルプス電気株式会社 について

, 
大見 忠弘

大見 忠弘 について


代理人 (1件)： 志賀 正武 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-315728
公開番号（公開出願番号）：特開2002-124400
出願日： 2000年10月16日
公開日（公表日）： 2002年04月26日
要約：
【要約】【課題】 プラズマ処理をおこなうチャンバ全体としては、電気的高周波的な特性が考慮されておらず、複数のプラズマ処理室毎の機差により、プラズマ処理を均等におこなうためには、膨大な調整時間が必要であった。【解決手段】 プラズマを励起するための電極4,8を有するプラズマチャンバ75と、この電極4に接続された高周波電源1と、プラズマチャンバ75と高周波電源1とのインピーダンス整合を得るための整合回路2Aとを具備し、電極4,8間のプラズマ電極容量Ce の26倍が、前記電極4と直流的にアースされた各接地電位部との間の容量(ロス容量)CX より大きな範囲の値に設定される。
請求項（抜粋）：
プラズマを励起するための電極を有するプラズマ処理室と、この電極に高周波電力を供給するための高周波電源と、入力端子と出力端子とを有し該入力端子に前記高周波電源を接続するとともに前記電極に接続した高周波電力配電体を前記出力端子に接続することにより前記プラズマ処理室と前記高周波電源とのインピーダンス整合を得る整合回路と、を具備し、前記高周波電源の接続された電極と対となり協働してプラズマを発生する電極との間のプラズマ電極容量Ce の26倍が、前記高周波電源の接続された電極と直流的にアースされた各接地電位部との間の容量CX より大きな範囲の値に設定されてなることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H05H 1/46 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31
FI (5件)：
H05H 1/46 M ,  H05H 1/46 A ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 C
Fターム (33件)：
5F004AA01 ,  5F004AA03 ,  5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BB13 ,  5F004BC06 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004CA03 ,  5F045AA08 ,  5F045BB02 ,  5F045BB08 ,  5F045BB16 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045EB02 ,  5F045EH13 ,  5F045EM02 ,  5F045EN04 ,  5F045GB02 ,  5F045GB12 ,  5F045GB13 ,  5F103AA08 ,  5F103BB06 ,  5F103BB09 ,  5F103BB33 ,  5F103BB53 ,  5F103BB59 ,  5F103HH03 ,  5F103HH04 ,  5F103RR01 ,  5F103RR06 ,  5F103RR08
引用特許：
審査官引用 (10件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM