特許
J-GLOBAL ID：200903059866842817

光集積回路基板及びその製造方法

発明者：
永田 清一

永田 清一 について


出願人/特許権者：
京セラ株式会社

京セラ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-206322
公開番号（公開出願番号）：特開平11-052175
出願日： 1997年07月31日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：
【要約】【課題】 構造が複雑で製作工程も長く、また基板の撓みや湾曲が大きくて基板1枚当たりの取れ数も少なく、さらに縦方向の光軸調整のための高さ調整も非常に複雑であるという問題があった。【解決手段】 一主面側に第一の平面部2を有する結晶質シリコン基板1の一部を除去して第二の平面部3を設け、この結晶質シリコン基板1内の第一の平面部2に第一の誘電体領域4を設けると共に、この第一の誘電体領域4の前記結晶質シリコン基板1内における外側にこの第一の誘電体領域4よりも屈折率が小さい第二の誘電体領域5を設け、前記第二の平面部3に前記第一の平面部2より前記結晶質シリコン基板1の内側に位置する誘電体層6を設けた。
請求項（抜粋）：
一主面側に第一の平面部を有する結晶質シリコン基板の一部を除去して第二の平面部を設け、この結晶質シリコン基板内の第一の平面部に第一の誘電体領域を設けると共に、この第一の誘電体領域の前記結晶質シリコン基板内における外側にこの第一の誘電体領域よりも屈折率が小さい第二の誘電体領域を設け、前記第二の平面部上に前記第一の平面部より前記結晶質シリコン基板の内側に位置する誘電体層を設けて成る光集積回路基板。
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (4件)
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