特許
J-GLOBAL ID：200903061032734019

微細加工ガラス及びその加工法

発明者：
小松 高行

小松 高行 について

, 
本間 剛

本間 剛 について

, 
紅野 安彦

紅野 安彦 について

, 
藤原 巧

藤原 巧 について


出願人/特許権者：
国立大学法人長岡技術科学大学

国立大学法人長岡技術科学大学 について


代理人 (4件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-191795
公開番号（公開出願番号）：特開2008-019123
出願日： 2006年07月12日
公開日（公表日）： 2008年01月31日
要約：
【課題】ガラスの表面または内部に対し微細なパターンを高精度で効率良く、低コストで形成する。【解決手段】特定のガラス形成酸化物と、アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移元素及び希土類元素から選ばれる少なくとも1種とを含有するガラス母体に、チタン、鉄、ニッケル、コバルト、マンガン、バナジウム、銅から選ばれる少なくとも1種を添加してなるガラスの表面または内部に、局所的な異質層を形成した後、エッチング剤と接触させて前記異質層または該異質層の周囲部分を除去することを特徴とするガラス材料の加工法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
SiO2、GeO2、B2O3、P2O5、TeO2、Ga2O3、MoO3及びWO3から選ばれる少なくとも1種のガラス形成酸化物と、アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移元素及び希土類元素から選ばれる少なくとも1種とを含有するガラス母体に、チタン、鉄、ニッケル、コバルト、マンガン、バナジウム、銅から選ばれる少なくとも1種を添加してなるガラスの表面または内部に、局所的な異質層を形成した後、エッチング剤と接触させて前記異質層または該異質層の周囲部分を除去することを特徴とするガラス材料の加工法。
IPC (7件)：
C03C 15/00 ,  C03C 23/00 ,  C03C 14/00 ,  G02B 6/13 ,  G02B 6/12 ,  G02B 3/00 ,  G02B 1/02
FI (7件)：
C03C15/00 G ,  C03C23/00 D ,  C03C14/00 ,  G02B6/12 M ,  G02B6/12 N ,  G02B3/00 Z ,  G02B1/02
Fターム (105件)：
2H147EA02C ,  2H147EA14C ,  2H147EA32C ,  2H147EA37C ,  2H147EA39C ,  2H147FA24 ,  2H147FA27 ,  2H147FB02 ,  2H147FB03 ,  2H147FC03 ,  2H147FE03 ,  2H147FF01 ,  2H147FF02 ,  2H147FF07 ,  2H147GA10 ,  4G059AA11 ,  4G059AB01 ,  4G059AB05 ,  4G059AB09 ,  4G059AC30 ,  4G059BB12 ,  4G062AA04 ,  4G062BB01 ,  4G062BB10 ,  4G062CC09 ,  4G062CC10 ,  4G062DA01 ,  4G062DA02 ,  4G062DA10 ,  4G062DB01 ,  4G062DC01 ,  4G062DC02 ,  4G062DD01 ,  4G062DD02 ,  4G062DE01 ,  4G062DF01 ,  4G062EA01 ,  4G062EA02 ,  4G062EA10 ,  4G062EB01 ,  4G062EC01 ,  4G062EC02 ,  4G062ED01 ,  4G062EE01 ,  4G062EF01 ,  4G062EF02 ,  4G062EG01 ,  4G062EG02 ,  4G062EG05 ,  4G062FA01 ,  4G062FA10 ,  4G062FB01 ,  4G062FB02 ,  4G062FB04 ,  4G062FC01 ,  4G062FD01 ,  4G062FD02 ,  4G062FD05 ,  4G062FD06 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FG02 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FK02 ,  4G062FL01 ,  4G062GA01 ,  4G062GA02 ,  4G062GA10 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GD02 ,  4G062GE01 ,  4G062HH01 ,  4G062HH03 ,  4G062HH05 ,  4G062HH06 ,  4G062HH07 ,  4G062HH08 ,  4G062HH09 ,  4G062HH11 ,  4G062HH12 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062KK01 ,  4G062KK02 ,  4G062KK03 ,  4G062KK04 ,  4G062KK05 ,  4G062KK07 ,  4G062KK10 ,  4G062MM02 ,  4G062MM12 ,  4G062NN40 ,  4G062QQ08 ,  4G062QQ20
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (3件)

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