特許
J-GLOBAL ID：200903061694869720
フォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
小野 由己男
, 稲積 朋子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-000337
公開番号（公開出願番号）：特開2004-213013
出願日： 2004年01月05日
公開日（公表日）： 2004年07月29日
要約：
【課題】 本発明は、MMNコーター用フォトレジスト組成物に関し、さらに詳しくは2000乃至12000の分子量を有するノボラック樹脂、及びジアジド系感光剤を含み、有機溶媒とSi系界面活性剤の助成と含量を調節し、液晶表示装置の回路用として用いられるフォトレジスト組成物に関する。【解決手段】 本発明の液晶表示装置回路用フォトレジスト組成物は、大型基板のガラスに対応可能なMMNコーターで発生するむらの問題を改善し、塗布特性を向上させ、実際産業現場に容易に適用することができ、生産性及び収率向上に大きな効果がある。【選択図】 図6b
請求項（抜粋）：
(a)下記の化学式(1)で示される高分子樹脂5〜30重量%、
(b)ジアジド系感光剤2〜10重量%、
(c)有機溶媒50〜90重量%、及び
(d)Si系界面活性剤500〜4000ppm、を含むフォトレジスト組成物
IPC (4件)：
G03F7/023
, G03F7/004
, G03F7/022
, G03F7/16
G03F7/023 511
, G03F7/004 501
, G03F7/004 504
, G03F7/022
, G03F7/16
2H025AB17
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BE01
, 2H025CB29
, 2H025CC03
, 2H025CC04
, 2H025CC20
, 2H025FA03
, 2H025FA17
