特許
J-GLOBAL ID：200903062389947106
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-376714
公開番号（公開出願番号）：特開2004-205921
出願日： 2002年12月26日
公開日（公表日）： 2004年07月22日
要約：
【課題】位相差制御層及び透過率制御層からなるシフター層の透過率制御層の屈折率を所望の値に制御することにより、位相差を変動させることなく透過率制御が容易なハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスクを提供することを目的とする。【解決手段】透明基板1上に屈折率nが0.9≦n≦1.1、消衰係数kが1.0<kの条件を満たしている透過率制御層2と位相差が180度に制御された位相差制御層3からなるシフタ層4を有するハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク10を作製し、ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク10上にレジストパターン5を形成し、シフタ層4をドライエッチング等でパターニング処理し、レジストパターン5を除去して、透過率制御パターン2a及び位相差制御パターン3aからなるシフトパターン4aを有するハーフトーン型位相シフトマスク100を得る。【選択図】図13
請求項（抜粋）：
透明基板上に露光光に対して位相及び透過率が制御された多層膜からなるシフタ層を設けたハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクにおいて、前記シフタ層が、透過率制御層と位相制御層とで構成されており、前記透過率制御層の消衰係数kが2.0<kで、かつ屈折率nが、0.8<n≦1.2の条件を満たしていることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 A
, H01L21/30 502P
2H095BB03
, 2H095BB31
, 2H095BC24
