特許
J-GLOBAL ID：200903065765768144

基板検査装置及び基板検査方法

発明者：
下田 勇一

下田 勇一 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： 高橋 浩三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-026331
公開番号（公開出願番号）：特開2008-191020
出願日： 2007年02月06日
公開日（公表日）： 2008年08月21日
要約：
【課題】検査で検出した欠陥の観察を容易に行う。【解決手段】検査テーブル5は、四角形の基板1をその向かい合う二辺だけで支持する。投光系は、光線を基板1の表面へ斜めに照射しながら、光線を基板1の支持された二辺と垂直な方向へ移動して、光線による基板1の走査を行う。欠陥検出回路25は、上受光系20が受光した散乱光から基板1の表面の欠陥を検出する。CPU60は、光線が照射されている基板1の表面上の位置を検出して、欠陥検出回路25が検出した欠陥の基板1の表面上の位置を検出し、欠陥の基板1の表面上の位置の座標を水平面へ投影した位置の座標へ変換する。観察系移動制御回路83は、CPU60が変換した位置の座標を用いて観察系移動機構82を制御し、観察系移動機構82は、観察系80を欠陥検出回路25が検出した欠陥の上方へ移動する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
四角形の基板をその向かい合う二辺だけで支持する検査テーブルと、 光線を基板の表面へ斜めに照射しながら、光線を基板の支持された二辺と垂直な方向へ移動して、光線による基板の走査を行う投光系と、 光線が基板の欠陥により散乱された散乱光を受光する受光系と、 前記受光系が受光した散乱光から基板の表面の欠陥を検出する検出手段と、 光線が照射されている基板の表面上の位置を検出して、前記検出手段が検出した欠陥の基板の表面上の位置を検出し、欠陥の基板の表面上の位置の座標を水平面へ投影した位置の座標へ変換する処理手段と、 前記検査テーブルに支持された基板の上方から鉛直に欠陥の画像を取得する観察系と、 前記処理手段が変換した位置の座標を用いて、前記観察系を前記検出手段が検出した欠陥の上方へ移動する移動手段とを備えたことを特徴とする基板検査装置。
IPC (3件)：
G01N 21/956 ,  G01M 11/00 ,  H05K 3/00
FI (3件)：
G01N21/956 Z ,  G01M11/00 T ,  H05K3/00 Q
Fターム (20件)：
2G051AA56 ,  2G051AA90 ,  2G051AB06 ,  2G051AB07 ,  2G051AC02 ,  2G051BA01 ,  2G051BA10 ,  2G051BB01 ,  2G051BC05 ,  2G051CA02 ,  2G051CA04 ,  2G051CA07 ,  2G051CB05 ,  2G051CC17 ,  2G051CD02 ,  2G051DA06 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EA23 ,  2G086EE10
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (6件)
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