特許
J-GLOBAL ID：200903086371002160

基板検査装置及び基板検査方法

発明者：
早野 明

早野 明 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： 高橋 浩三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-295814
公開番号（公開出願番号）：特開2007-107884
出願日： 2005年10月11日
公開日（公表日）： 2007年04月26日
要約：
【課題】光学系の焦点位置の調整を簡単にして、基板の欠陥の検査を容易に行う。【解決手段】ワークテーブル13の基板支持体15により、マスク基板1をその向かい合う二辺だけで支持する。光学ユニット40a,40bをボールねじ24,26でY方向へ移動することにより、光学ユニット40aの検査光によるマスク基板1の走査範囲を変更する。マスク基板1のたわみに応じて、ワークテーブル13をカム32及びカムフォロア33でZ方向へ移動することにより、マスク基板1に対する光学ユニット40a,40bの焦点位置の調整を行う。ワークテーブル13をボールねじ22でX方向へ移動することにより、光学ユニット40aの検査光によるマスク基板1の走査を行い、マスク基板1のたわみ量の差が光学ユニット40a,40bの焦点位置の許容誤差の範囲内となる検査幅で、マスク基板1の欠陥を検出する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板をその向かい合う二辺だけで支持する基板支持手段と、 支持された二辺と垂直な方向に所定の幅を有する検査光を前記基板支持手段に支持された基板へ照射し、基板からの透過光、反射光又は散乱光を受光する光学系と、 前記基板支持手段と前記光学系とを相対的に支持された二辺と平行な方向へ移動して、検査光による基板の走査を行う第1の移動手段と、 前記基板支持手段と前記光学系とを相対的に支持された二辺と垂直な方向へ移動して、検査光による基板の走査範囲を変更する第2の移動手段と、 前記基板支持手段に支持された基板のたわみに応じて、前記基板支持手段と前記光学系とを相対的に上下へ移動して、基板に対する前記光学系の焦点位置の調整を行う第3の移動手段と、 前記光学系の検出信号を処理して、基板のたわみ量の差が光学系の焦点位置の許容誤差の範囲内となる検査幅で基板の欠陥を検出する処理手段とを備えたことを特徴とする基板検査装置。
IPC (1件)：
G01N 21/958
FI (1件)：
G01N21/958
Fターム (13件)：
2G051AA41 ,  2G051AA42 ,  2G051AA73 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051BA10 ,  2G051CA01 ,  2G051CB01 ,  2G051CB02 ,  2G051CB05 ,  2G051DA07 ,  2G051EA12 ,  2G051EA23
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (9件)
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