特許
J-GLOBAL ID：200903066587390937
センサ応用のための半透膜を形成する光重合性シリコーン物質
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
志賀 正武
, 渡邊 隆
, 村山 靖彦
, 実広 信哉
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-525608
公開番号（公開出願番号）：特表2008-510030
出願日： 2005年06月21日
公開日（公表日）： 2008年04月03日
要約：
(1)検出装置中の表面に光パターン形成性シリコーン組成物を適用してフィルムを形成する工程、(2)前記フィルムを、フォトレジストを使用せずにフォトマスクを介して光に暴露することを含む処理によって光パターン化フィルムを製造する工程;(3)現像溶液を用いて前記非露光フィルムの領域を除去してパターン化フィルムを形成する工程を含み、前記パターン化フィルムが該装置の予め選択された領域を覆う選択透過性層または検体希釈層を形成する、検出装置(バイオセンサ)の調製方法。
請求項（抜粋）：
(1)検出装置中の表面に光パターン形成性シリコーン組成物を適用してフィルムを形成する工程;
(2)前記フィルムを、フォトレジストを使用せずにフォトマスクを介して光に暴露することを含む処理によって光パターン化する工程;
(3)現像溶液を用いて前記非露光フィルムの領域を除去してパターン化フィルムを形成する工程;任意に
(4)前記パターン化フィルムを加熱する工程;
を含む方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (7件)：
4J002CP04X
, 4J002CP19W
, 4J002FD010
, 4J002FD090
, 4J002FD150
, 4J002FD310
, 4J002GP03
出願人引用 (15件)
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審査官引用 (14件)
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