特許
J-GLOBAL ID：200903067787104471

蛍光X線分析方法および蛍光X線分析装置

発明者：
江場 宏美

江場 宏美 について

, 
桜井 健次

桜井 健次 について


出願人/特許権者：
独立行政法人物質・材料研究機構

独立行政法人物質・材料研究機構 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-291851
公開番号（公開出願番号）：特開2005-128013
出願日： 2004年10月04日
公開日（公表日）： 2005年05月19日
要約：
【課題】 一つの基板上に形成された複数の試料の蛍光X線法による分析・評価を迅速に行うことが可能で、基板上に集積した全試料を同条件で同時分析できる蛍光X線分析方法と、そのための装置を提供する。【解決手段】 複数の試料が形成された基板表面に対し、次式(I)【数1】(ただし、hは試料の基板からの高さを表し、lは入射X線ベクトルを基板面上に投影したベクトルに沿って測った試料間の距離を表す)を満たす値以上で、次式(II)【数2】(ただし、Hは入射X線のビーム幅を示し、Lは最も上流側にある試料の最低部から最も下流側にある試料の下流側端部までの距離を表し、hは試料の基板からの高さを表す)を満たす値以下の入射角θでX線を照射し、各試料領域から発生した蛍光X線を、少なくとも各試料領域に照準を合わせた個別の検出部が集合して構成される検出手段により同時に検出する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
一つの基板上に形成された複数の試料について同時に蛍光X線分析を行う方法であって、複数の試料が形成された基板表面に対し、次式(I)
IPC (2件)：
G01N23/223 ,  G01N37/00
FI (2件)：
G01N23/223 ,  G01N37/00 103
Fターム (32件)：
2G001AA01 ,  2G001AA09 ,  2G001BA04 ,  2G001BA12 ,  2G001CA01 ,  2G001DA01 ,  2G001DA02 ,  2G001DA08 ,  2G001DA09 ,  2G001DA10 ,  2G001EA02 ,  2G001EA09 ,  2G001GA01 ,  2G001GA05 ,  2G001GA06 ,  2G001GA08 ,  2G001GA13 ,  2G001HA13 ,  2G001KA01 ,  2G001KA13 ,  2G001LA20 ,  2G001MA05 ,  2G001MA10 ,  2G001NA10 ,  2G001NA11 ,  2G001NA13 ,  2G001NA17 ,  2G001QA01 ,  2G001RA02 ,  2G001RA03 ,  2G001SA02 ,  2G001SA10
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (8件)
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