特許
J-GLOBAL ID：200903068051569627
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐々木 聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-084706
公開番号（公開出願番号）：特開2008-244274
出願日： 2007年03月28日
公開日（公表日）： 2008年10月09日
要約：
【課題】プロセスに実質的な影響を与えることなくフォーカスリングの消耗を効果的に抑えること。【解決手段】サセプタ12の主面は、ウエハWと略同形状かつ略同サイズのウエハ載置部と、その外側に延在する環状の周辺部とに2分割されており、ウエハ載置部の上には半導体ウエハWが載置され、環状周辺部の上にフォーカスリング36が取り付けられる。サセプタ12上面の周辺部には、フォーカスリング36の下面と接触する環状の周辺誘電体42が設けられる。この周辺誘電体42は、サセプタ12上面のウエハ載置部に設けられるウエハ吸着用の静電チャック38の誘電体38aよりも大きな単位面積当たりの静電容量を有するように構成される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
真空排気可能な処理容器と、
前記処理容器内で被処理基板を支持する第1の電極と、
前記第1の電極と対向して配置される第2の電極と、
前記第1の電極または前記第2の電極のいずれかに第1の周波数を有する第1の高周波を印加する第1の高周波給電部と、
前記第1の電極と前記第2の電極との間に設定される処理空間に処理ガスを供給する処理ガス供給部と、
前記第1の電極の主面の前記基板を載置する部分に設けられる主誘電体と、
前記基板載置部よりも外側に位置する前記第1の電極の主面の周辺部を覆うように、前記第1の電極に取り付けられるフォーカスリングと、
前記主誘電体により前記第1の電極と前記基板との間に与えられる単位面積当たりの静電容量よりも小さな単位面積当たりの静電容量を前記第1の電極と前記フォーカスリングとの間に与えるように、前記第1の電極の主面の周辺部に設けられる周辺誘電体と
を有するプラスマ処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/306
, H01L 21/205
, H01L 21/31
H01L21/302 101B
, H01L21/205
, H01L21/31 C
5F004BA09
, 5F004BB11
, 5F004BB12
, 5F004BB13
, 5F004BB22
, 5F004BB23
, 5F004BD04
, 5F004BD05
, 5F004CA06
, 5F045AA08
, 5F045AA20
, 5F045AB32
, 5F045AB33
, 5F045DP03
, 5F045EH14
, 5F045EH20
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (7件)
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