特許
J-GLOBAL ID:200903069724189160
イオン注入装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山本 惠二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-146574
公開番号(公開出願番号):特開平11-329336
出願日: 1998年05月11日
公開日(公表日): 1999年11月30日
要約:
【要約】【課題】 基板へのイオン注入と、基板の表面近傍を含む領域にプラズマを生成することを併用する装置において、プラズマの電位を安定化させて、ファラデー装置によるイオンビーム電流計測の安定性を高める。【解決手段】 真空容器8の内壁であって基板ホルダ12の周辺付近からイオン源2の取り付け口9付近にかけての領域の内壁を覆うように、当該内壁に沿って、筒状の内張り電極32aを配置した。内張り電極32aは、絶縁物40によって真空容器8から電気的に絶縁して支持している。更に、この内張り電極32aに負の直流電圧を印加する直流電源44を設けた。
請求項(抜粋):
真空に排気される真空容器と、この真空容器内に設けられていて基板を保持する基板ホルダと、この基板ホルダ上の基板にそれよりも大面積のイオンビームを照射するイオン源と、基板ホルダの近傍であって基板を避けた位置に設けられていてイオン源から基板に照射されるイオンビームの一部を受けてそのビーム電流を計測するファラデー装置と、基板ホルダ上の基板の表面近傍を含む領域にプラズマを生成する手段とを備えるイオン注入装置において、前記プラズマを生成する領域とそれに対面する真空容器の壁面との間を区切るように当該壁面から電気的に絶縁して配置された面状の内張り電極と、この内張り電極に負の直流電圧を印加する直流電源とを備えることを特徴とするイオン注入装置。
IPC (3件):
H01J 37/317
, H01J 37/16
, H01L 21/265
FI (4件):
H01J 37/317 Z
, H01J 37/317 C
, H01J 37/16
, H01L 21/265 T
引用特許:
審査官引用 (15件)
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イオン照射装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-270061
出願人:日新電機株式会社
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イオンドーピング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-234039
出願人:日新電機株式会社
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イオン照射装置の運転方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-089364
出願人:日新電機株式会社
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特開平4-267042
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特開昭63-126225
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イオン照射装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-131074
出願人:日新電機株式会社
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特開昭63-228548
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特開平4-282549
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イオンビーム装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-069877
出願人:株式会社島津製作所
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粒子線照射装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-292117
出願人:日新電機株式会社
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イオン注入中の半導体ウェハにおける帯電を低減するプラズマ放出システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-301965
出願人:アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
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イオン源のクリーニング方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-082608
出願人:日新電機株式会社
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イオン注入装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-212216
出願人:日新電機株式会社
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特開平3-064462
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特開昭55-130052
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