特許
J-GLOBAL ID:200903069878929662

水酸基を有する単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-069020
公開番号(公開出願番号):特開2009-221394
出願日: 2008年03月18日
公開日(公表日): 2009年10月01日
要約:
【解決手段】下記一般式(1)で表される水酸基を有する単量体。(R1は水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。R2、R3はそれぞれ独立に炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状の1価炭化水素基、又は、R2、R3は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に脂肪族炭化水素環を形成してもよい。)【効果】本発明の水酸基を有する単量体は、機能性材料の原料等として有用であり、特に波長500nm以下、特に波長300nm以下の放射線に対して優れた透明性を有し、酸拡散制御効果に優れるため、解像性の良好な感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体として非常に有用であり、また、本発明の高分子化合物は感放射線レジスト材料のベース樹脂として有用である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
下記一般式(1)で表される水酸基を有する単量体。
IPC (5件):
C08F 20/28 ,  C07C 69/003 ,  C07C 69/54 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (5件):
C08F20/28 ,  C07C69/003 C ,  C07C69/54 Z ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (49件):
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025DA34 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AB46 ,  4H006BJ30 ,  4H006BN20 ,  4H006KA06 ,  4J100AJ08R ,  4J100AJ09R ,  4J100AL03Q ,  4J100AL03R ,  4J100AL04Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL34R ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BA20Q ,  4J100BB17Q ,  4J100BC02P ,  4J100BC03P ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07P ,  4J100BC07Q ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12P ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
  • ポジ型レジスト組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2002-249040   出願人:富士写真フイルム株式会社
  • ポジ型レジスト組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2003-008380   出願人:富士写真フイルム株式会社
  • ネガ型レジスト組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2001-254879   出願人:富士写真フイルム株式会社
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