特許
J-GLOBAL ID：200903072536309990
液晶配向膜用真空蒸着装置およびその成膜方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
岡部 正夫
, 加藤 伸晃
, 産形 和央
, 臼井 伸一
, 越智 隆夫
, 本宮 照久
, 朝日 伸光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-210987
公開番号（公開出願番号）：特開2006-330656
出願日： 2005年07月21日
公開日（公表日）： 2006年12月07日
要約：
【課題】蒸着対象が大型基板であっても単純な構成で無機配向膜を効率よく形成する液晶配向膜用真空蒸着装置を提供することを目的とする。【解決手段】排気手段を有する真空槽及び真空槽内部の蒸着源を備えた液晶配向膜用真空蒸着装置において、蒸着源の鉛直線を中心として水平に配置されたスリットであって蒸着材料が通過するための複数の開口が放射状に設けられたスリット、およびスリットを介して蒸着源に対向する位置に配置され鉛直線を中心として基板を円周上に配列して保持する基板保持手段であって基板上の任意の点と蒸着源とを結ぶ直線と基板の垂線とのなす入射角を所定の角度に調整可能な基板保持手段を備え、鉛直線を中心に基板およびスリットが相対的に回転可能であり、スリットを通過した蒸着材料によって基板が斜方蒸着されて配向膜が形成されるように構成した。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
排気手段を有する真空槽及び該真空槽内部の蒸着源を備えた液晶配向膜用真空蒸着装置であって、
該蒸着源の鉛直線を中心として水平に配置されたスリットであって、蒸着材料が通過するための複数の開口が放射状に設けられたスリット、および
該スリットを介して該蒸着源に対向する位置に配置され、前記鉛直線を中心として基板を円周上に配列して保持する基板保持手段であって、該基板上の任意の点と該蒸着源とを結ぶ直線と該基板の垂線とのなす入射角を所定の角度に調整可能な基板保持手段
を備え、
該鉛直線を中心に該基板および該スリットが相対的に回転可能であり、
該スリットを通過した蒸着材料によって該基板が斜方蒸着されて配向膜が形成されるように構成されたことを特徴とする液晶配向膜用真空蒸着装置。
IPC (3件)：
G02F 1/133
, C23C 14/24
, C23C 14/54
G02F1/1337 515
, C23C14/24 G
, C23C14/54 G
2H090HA11
, 2H090HB02Y
, 2H090HC01
, 2H090HD14
, 2H090JB02
, 2H090JC07
, 2H090MA02
, 2H090MB06
, 4K029AA24
, 4K029BA31
, 4K029CA01
, 4K029DA12
, 4K029DB21
, 4K029JA01
, 4K029JA02
出願人引用 (1件)
審査官引用 (22件)
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