特許
J-GLOBAL ID：200903073614454736

自己組織化単分子膜作製装置とその利用

発明者：
齋藤 永宏

齋藤 永宏 について

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石崎 貴裕

石崎 貴裕 について

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高井 治

高井 治 について

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石黒 義和

石黒 義和 について


出願人/特許権者：
国立大学法人名古屋大学

国立大学法人名古屋大学 について

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竹田印刷株式会社

竹田印刷株式会社 について


代理人 (3件)： 安部 誠 ,  大井 道子 ,  手島 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-352281
公開番号（公開出願番号）：特開2008-161779
出願日： 2006年12月27日
公開日（公表日）： 2008年07月17日
要約：
【課題】被処理物の表面に自己組織化単分子膜(SAM)を効率よく作製することのできる方法および該方法に適した装置を提供すること。【解決手段】本発明に係るSAM作製装置1は、被処理物Wが導入されるチャンバ10と、該チャンバ内の空間11にSAM形成材料を供給するSAM供給手段20と、該チャンバ内を通して被処理物Wを搬送する被処理物搬送手段40とを備える。SAM供給手段10は、SAM形成材料を含むミストMを生成する霧化器22と、そのミストを加熱する加熱器24とを含み、チャンバ10に導入された被処理物Wにチャンバ内の空間11にあるSAM形成材料が付着するように構成されている。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
被処理物の表面に自己組織化単分子膜を作製する装置であって、 前記被処理物が導入されるチャンバと、 該チャンバ内の空間に自己組織化単分子膜形成材料を供給する膜形成材料供給手段と、 該チャンバ内を通して前記被処理物を搬送する被処理物搬送手段と、 を備え、 ここで、前記膜形成材料供給手段は前記自己組織化単分子膜形成材料を含むミストを生成する霧化器と該ミストを加熱する加熱器とを含み、前記チャンバに導入された前記被処理物に該チャンバ内の空間にある自己組織化単分子膜形成材料が付着するように構成されている、自己組織化単分子膜の作製装置。
IPC (1件)：
B01J 19/00
FI (1件)：
B01J19/00 K
Fターム (15件)：
4G075AA24 ,  4G075BA04 ,  4G075BA05 ,  4G075BB02 ,  4G075BB05 ,  4G075BD14 ,  4G075CA02 ,  4G075CA03 ,  4G075CA33 ,  4G075CA54 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EB31 ,  4G075EC01 ,  4G075ED11
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (8件)
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