特許
J-GLOBAL ID：200903073841329018

欠陥検査装置、欠陥検査方法およびプログラム

発明者：
佐々 泰志

佐々 泰志 について

, 
大西 浩之

大西 浩之 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 松阪 正弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-294851
公開番号（公開出願番号）：特開2004-132721
出願日： 2002年10月08日
公開日（公表日）： 2004年04月30日
要約：
【課題】基板上のパターンの欠陥を適切に検出する。【解決手段】基板上のパターンを示す参照画像および被検査画像を取得し、参照画像の画素値のヒストグラム62aに基づいて注目画素値範囲63を設定する。そして、注目画素値範囲63において傾きが大きい変換曲線71を求める。被検査画像および参照画像を変換曲線71にて示される変換特性を有するLUTにて変換し、変換後の被検査画像と変換後の参照画像との強調差分画像を生成し、強調差分画像の画素値を所定のしきい値と比較することにより欠陥画素を検出する。これにより、注目画素値範囲63の画素値を有する参照画像(または被検査画像)中の画素に対応する強調差分画像中の画素の値が強調され、適切な検査が実現される。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
対象物上のパターンを検査する欠陥検査装置であって、 対象物を撮像して多階調の被検査画像のデータを取得する撮像部と、 参照画像のデータを記憶する記憶部と、 欠陥検出において注目する複数の注目画素値における任意の画素値の差を強調する変換特性を求める手段と、 前記変換特性に基づいて前記被検査画像と前記参照画像との強調差分画像を求める手段と、 前記強調差分画像に基づいて検査を行う手段と、 を備えることを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (3件)：
G01N21/956 ,  G06T1/00 ,  H01L21/66
FI (3件)：
G01N21/956 A ,  G06T1/00 305A ,  H01L21/66 J
Fターム (32件)：
2G051AA51 ,  2G051AA56 ,  2G051AA65 ,  2G051AA73 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051DA07 ,  2G051EA08 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EB01 ,  2G051EC01 ,  2G051EC02 ,  2G051ED04 ,  2G051ED08 ,  2G051ED14 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106BA10 ,  4M106CA39 ,  4M106DB19 ,  4M106DB21 ,  5B057AA03 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DB09 ,  5B057DC32
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (11件)
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