特許
J-GLOBAL ID：200903014876238671

ポジ型感光性樹脂組成物

発明者：
河辺 保雅

河辺 保雅 について

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佐藤 健一郎

佐藤 健一郎 について

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青合 利明

青合 利明 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-147689
公開番号（公開出願番号）：特開平11-338152
出願日： 1998年05月28日
公開日（公表日）： 1999年12月10日
要約：
【要約】【課題】 深紫外線、特にArF エキシマレーザー光に対して、特に残膜率、レジストプロファイルが優れ、現像欠陥の問題を生じないとともに、半導体製造プロセス上安定性の優れたポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 環状脂肪族炭化水素骨格構造を含み、酸の作用により分解してアルカリ可溶性となる重合体、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、分子内に含窒素塩基性基と酸性基とを含む化合物、及びフッソ系及び/またはシリコン系界面活性剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物。
請求項（抜粋）：
(A)環状脂肪族炭化水素骨格構造を含み、酸の作用により分解してアルカリ可溶性となる重合体、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)分子内に含窒素塩基性基と酸性基とを含む化合物、及び(D)フッソ系及び/又はシリコン系界面活性剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/027 ,  C08L 45/00
FI (6件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/20 502 ,  C08L 45/00 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
審査官引用 (14件)
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