特許
J-GLOBAL ID：200903075264161962

基板処理方法及びその装置

発明者：
上山 勉

上山 勉 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-071794
公開番号（公開出願番号）：特開2002-270495
出願日： 2001年03月14日
公開日（公表日）： 2002年09月20日
要約：
【要約】【課題】 進行波で塗布液をレベリングすることによって、基板にストレスを与えることなく塗布被膜を形成することができる基板処理方法及びその装置を提供する。【解決手段】 基板Sの表面に塗布液Rの被膜を形成する基板処理方法において、基板Sの表面に供給された塗布液Rを進行波PWにより拡げてレベリングすることにより被膜を形成する。進行波PWを発生させると、基板Sの表面に供給された塗布液Rがその方向に移動されて拡げられ、塗布液Rがレベリングされる。したがって、基板Sにストレスを与えることなく塗布被膜を形成することができる。
請求項（抜粋）：
基板の表面に塗布液の被膜を形成する基板処理方法において、基板の表面に供給された塗布液を進行波により拡げてレベリングすることにより被膜を形成することを特徴とする基板処理方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  B05C 11/02 ,  B05D 3/00 ,  G03F 7/16 501
FI (4件)：
B05C 11/02 ,  B05D 3/00 F ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/30 564 Z
Fターム (28件)：
2H025AA00 ,  2H025AA18 ,  2H025AB13 ,  2H025AB14 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025EA04 ,  4D075BB12Z ,  4D075BB56Z ,  4D075BB69Z ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075DC24 ,  4D075EA45 ,  4F042AA02 ,  4F042AA07 ,  4F042AA10 ,  4F042DC03 ,  4F042DD02 ,  4F042DD41 ,  5F046JA02 ,  5F046JA09 ,  5F046JA16 ,  5F046JA27
引用特許：
審査官引用 (11件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-082852   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 塗布液塗布方法及びその装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-165770   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開平3-038821
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