プラズマ処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：石田敬 , 鶴田準一 , 吉井一男 , 西山雅也 , 樋口外治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-207310
公開番号（公開出願番号）：特開2004-055614
出願日： 2002年07月16日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：

【課題】大面積の被処理体を処理する場合であっても、高効率で且つ高密度のプラズマを生成することが可能なプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】処理チャンバ内にマイクロ波を供給してプラズマを発生させ、該プラズマに基づき被処理体を処理するプラズマ処理装置において、チャンバ壁、またはチャンバ天板に、該チャンバ壁または天板を貫通しする少なくとも1つのアンテナを配置する。天板が金属またはシリコンをベースとする材料から構成されていてもよい。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

処理チャンバ内にマイクロ波を供給してプラズマを発生させ、該プラズマに基づき被処理体を処理するプラズマ処理装置であって; 前記プラズマが生成すべき領域を介して前記被処理体と対向する処理チャンバの天板に、該天板を貫通して処理チャンバ内に至る少なくとも1つのアンテナが配置されていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H01L21/205 , B01J19/08 , H01L21/3065 , H05H1/46

FI (4件)：

H01L21/205 , B01J19/08 H , H05H1/46 B , H01L21/302 101D

Fターム (42件)：

4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075AA61 , 4G075AA65 , 4G075BC01 , 4G075BC06 , 4G075BC10 , 4G075CA26 , 4G075DA02 , 4G075DA18 , 4G075EB41 , 4G075EB50 , 4G075EC02 , 4G075EE04 , 4G075FA08 , 4G075FB02 , 4G075FB06 , 4G075FC15 , 4K030CA04 , 4K030CA12 , 4K030FA01 , 4K030JA03 , 4K030KA01 , 4K030KA14 , 4K030KA20 , 4K030KA30 , 4K030KA46 , 5F004AA01 , 5F004AA16 , 5F004BA20 , 5F004BB11 , 5F004BB14 , 5F004BB18 , 5F004BD04 , 5F004CA06 , 5F045AA09 , 5F045BB02 , 5F045BB09 , 5F045DP03 , 5F045DQ10 , 5F045EH02 , 5F045EH20

引用特許：

審査官引用 (14件)

プラズマ発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-208966 出願人：国際電気株式会社
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-138375 出願人：三菱電機株式会社
高周波放電方法及びその装置並びに高周波処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-007581 出願人：株式会社東芝

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