特許
J-GLOBAL ID：200903077307257988
パターン微細化用被覆形成剤およびそれを用いた微細パターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 洋子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-135458
公開番号（公開出願番号）：特開2005-316239
出願日： 2004年04月30日
公開日（公表日）： 2005年11月10日
要約：
【課題】 被覆形成剤を用いたパターンの微細化において、露光マージンが大きく、ホトレジストパターンの寸法制御を微細化パターンの寸法制御性に反映させることができ、また、熱収縮作用後のホトレジストパターン形状を矩形状に維持してトップがラウンド状となることを防止し、熱収縮率の高いパターン微細化用被覆形成剤、およびこれを用いた微細パターン形成方法を提供する。【解決手段】 ホトレジストパターンを有する基板上に被覆され、該被覆の熱収縮作用を利用してホトレジストパターン間隔を狭小せしめて微細パターンを形成するために使用される被覆形成剤であって、少なくともメタクリル酸および/またはメタクリル酸メチルを構成モノマーとして含む水溶性ポリマーを含有することを特徴とするパターン微細化用被覆形成剤、および該パターン微細化用被覆形成剤を用いた微細パターン形成方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
ホトレジストパターンを有する基板上に被覆され、該被覆の熱収縮作用を利用してホトレジストパターン間隔を狭小せしめて微細パターンを形成するために使用される被覆形成剤であって、少なくともメタクリル酸および/またはメタクリル酸メチルを構成モノマーとして含む水溶性ポリマーを含有することを特徴とするパターン微細化用被覆形成剤。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/40 511
, H01L21/30 570
2H096AA25
, 2H096BA01
, 2H096BA09
, 2H096HA05
, 2H096JA04
, 5F046LA18
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (3件)
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