特許
J-GLOBAL ID：200903077659935455
レジスト組成物の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-080678
公開番号（公開出願番号）：特開2004-199019
出願日： 2003年03月24日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：
【課題】製造時に感度の変化が小さく、レジスト膜の膜厚の均一性に優れたレジスト組成物の製造方法を提供する。【解決手段】(A1)酸分解性樹脂若しくは(A2)アルカリ可溶性樹脂、(B)光酸発生剤及び(C)有機溶剤を含有するレジスト組成物の製造方法であって、孔径0.03μm以下のフィルターを使用して濾過する工程を有し、濾過開始から濾過終了までの間のレジスト組成物の最高液温と最低液温との差を3°C以内に管理することを特徴とするレジスト組成物の製造方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A1)酸分解性樹脂若しくは(A2)アルカリ可溶性樹脂、(B)光酸発生剤及び(C)有機溶剤を含有するレジスト組成物の製造方法であって、孔径0.03μm以下のフィルターを使用して濾過する工程を有し、濾過開始から濾過終了までの間のレジスト組成物の最高液温と最低液温との差を3°C以内に管理することを特徴とするレジスト組成物の製造方法。
IPC (5件)：
G03F7/26
, B01D61/14
, G03F7/004
, G03F7/039
, H01L21/027
G03F7/26
, B01D61/14 500
, G03F7/004 501
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
2H025AA00
, 2H025AA01
, 2H025AB16
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025BJ00
, 2H025CC03
, 2H025FA01
, 2H025FA12
, 2H096AA25
, 2H096BA09
, 2H096FA01
, 2H096LA30
, 4D006GA07
, 4D006MA22
, 4D006MC22
, 4D006PA01
, 4D006PB13
, 4D006PC01
