特許

J-GLOBAL ID：200903080646093740

DLC膜及びDLCコート金型

発明者： 滝川 浩史 ,  田上 英人 ,  神谷 雅男 ,  加藤 裕久 ,  瀧 真 ,  長谷川 祐史
出願人/特許権者： 国立大学法人豊橋技術科学大学 ,  伊藤光学工業株式会社 ,  株式会社オンワード技研
代理人 (1件)： 的場 基憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-146539
公開番号（公開出願番号）：特開2008-297171
出願日： 2007年06月01日
公開日（公表日）： 2008年12月11日
要約：

【課題】高温耐久性を始めとする保護膜として要求される種々の特性、特に耐熱性や耐融着性、表面平滑性に優れたDLC膜と、このようなDLC膜を備えたDLCコート金型を提供すること。【解決手段】DLC膜をta-C、つまり、sp3/(sp2+sp3)構造比が0.5〜0.9、水素含有量が0〜5原子%、ナノインデンテーション硬さが40〜100GPa、密度が2.7〜3.4g/cm3であるDLCから成るものとし、基材上に成膜された表面に対する針先端曲率半径2μmの触針式表面形状測定器による測定送り0.01mmの表面走査検出において、基材の成膜前における被成膜面の算術平均粗さRa(S)に対するDLC膜面の算術平均粗さRa(D)の絶対値変化量ΔRa(=|Ra(S)-Ra(D)|)が0.75nm以下、且つ当該DLC膜面における高さ又は深さが20nm以上の凹凸の数が単位走査距離及び単位膜厚あたり0.01個/単位走査距離(mm)/単位膜厚(nm)以下のものとする。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

基材上に成膜されたDLC膜であって、ta-Cに分類されるDLCから成り、sp3/(sp2+sp3)構造比が0.5〜0.9、水素含有量が0〜5原子%、ナノインデンテーション硬さが40〜100GPa、密度が2.7〜3.4g/cm3であって、針先端曲率半径2μmの触針式表面形状測定器による測定送り0.01mmの表面走査検出において、上記基材の成膜前における被成膜面の算術平均粗さRa(S)に対するDLC膜面の算術平均粗さRa(D)の絶対値変化量ΔRa(=|Ra(S)-Ra(D)|)が0.75nm以下であると共に、当該DLC膜面における高さ又は深さが20nm以上の凹凸の数が単位走査距離及び単位膜厚あたり0.01個/単位走査距離(mm)/単位膜厚(nm)以下であることを特徴とするDLC膜。

IPC (5件)：

C01B 31/02 ,  C03B 11/08 ,  C23C 14/06 ,  B29C 33/38 ,  B21D 37/01

FI (5件)：

C01B31/02 101Z ,  C03B11/08 ,  C23C14/06 F ,  B29C33/38 ,  B21D37/01

Fターム (61件)：

4E050JB09 ,  4E050JB10 ,  4E050JD03 ,  4E050JD04 ,  4E050JD05 ,  4E050JD06 ,  4F202AH74 ,  4F202AJ01 ,  4F202AJ02 ,  4F202AJ06 ,  4F202AJ09 ,  4F202AJ11 ,  4F202AJ14 ,  4F202AR12 ,  4F202AR13 ,  4F202CA09 ,  4F202CA11 ,  4F202CA15 ,  4F202CA17 ,  4F202CA27 ,  4F202CA30 ,  4F202CB01 ,  4F202CD22 ,  4G146AA05 ,  4G146AB07 ,  4G146AC01A ,  4G146AC01B ,  4G146AC15A ,  4G146AC15B ,  4G146AC16A ,  4G146AC16B ,  4G146AC22A ,  4G146AC22B ,  4G146AC23A ,  4G146AC23B ,  4G146AC25A ,  4G146AC25B ,  4G146AC30A ,  4G146AC30B ,  4G146AD19 ,  4G146AD26 ,  4G146AD36 ,  4G146AD37 ,  4G146BA12 ,  4G146BA48 ,  4G146BB23 ,  4G146BC17 ,  4G146BC18 ,  4G146BC27 ,  4G146DA03 ,  4G146DA17 ,  4G146DA30 ,  4G146DA46 ,  4G146DA47 ,  4K029AA02 ,  4K029BA34 ,  4K029CA01 ,  4K029CA02 ,  4K029CA13 ,  4K029DB02 ,  4K029DD06

引用特許：

出願人引用 (3件)

• ガラスプレス成形型
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-348729   出願人：ホーヤ株式会社
• 特開昭63-103836号公報
  
• 光学レンズ用金型およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-109729   出願人：ミノルタ株式会社

審査官引用 (7件)

• 硬質カーボン被膜、および該被膜に被覆された部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-085784   出願人：富士電機株式会社
• ガラス成形用金型の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-182727   出願人：ミノルタ株式会社
• 光学用ガラス成形体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-353488   出願人：キヤノン株式会社
• 光透過性カーボン系薄膜とその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-108356   出願人：独立行政法人物質・材料研究機構
• カーボン保護膜及びその形成方法、並びにそのカーボン保護膜を備えた磁気記録媒体、磁気ヘッド、及び磁気記憶装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-092869   出願人：富士通株式会社
• 複合成膜装置およびこれを用いた磁気ヘッドの保護膜形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-179544   出願人：株式会社島津製作所
• 光学素子成形用型の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-239457   出願人：キヤノン株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Growth mechanisms of DLC films from C+ ions: experimental studies