特許
J-GLOBAL ID：200903080753452701

測定装置、露光装置及びデバイス製造方法

発明者：
加藤 正磨

加藤 正磨 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (4件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-027372
公開番号（公開出願番号）：特開2008-192936
出願日： 2007年02月06日
公開日（公表日）： 2008年08月21日
要約：
【課題】干渉パターンのノイズを低減し、被検光学系の光学性能(波面収差)を高精度に測定することができる測定装置を提供する。【解決手段】被検光学系の波面収差を測定する測定装置であって、前記被検光学系の物体面に配置され、光を反射して球面波を生成する複数の反射部を含む測定用マスクと、前記測定用マスク及び前記被検光学系を経た光を回折させる回折光学素子と、前記回折光学素子によって回折された光の干渉によって形成される干渉パターンを検出する検出部とを有し、前記測定用マスクは、光を反射する反射層と、前記反射層の上に配置され、複数の開口を有し、第1の物質からなる第1の層と、前記第1の層の上に配置され、前記複数の開口が配列された領域を露出させる窓を有し、前記第1の物質と異なる第2の物質からなる第2の層とを有し、前記反射部は、前記反射層のうち前記複数の開口によって露出した部分によって形成されていることを特徴とする測定装置を提供する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
被検光学系の波面収差を測定する測定装置であって、 前記被検光学系の物体面に配置され、光を反射して球面波を生成する複数の反射部を含む測定用マスクと、 前記測定用マスク及び前記被検光学系を経た光を回折させる回折光学素子と、 前記回折光学素子によって回折された光の干渉によって形成される干渉パターンを検出する検出部とを有し、 前記測定用マスクは、 光を反射する反射層と、 前記反射層の上に配置され、複数の開口を有し、第1の物質からなる第1の層と、 前記第1の層の上に配置され、前記複数の開口が配列された領域を露出させる窓を有し、前記第1の物質と異なる第2の物質からなる第2の層とを有し、 前記反射部は、前記反射層のうち前記複数の開口によって露出した部分によって形成されていることを特徴とする測定装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  G03F 1/16 ,  G01B 9/02 ,  G01M 11/02
FI (7件)：
H01L21/30 531A ,  H01L21/30 516A ,  H01L21/30 517 ,  G03F7/20 521 ,  G03F1/16 A ,  G01B9/02 ,  G01M11/02 B
Fターム (34件)：
2F064AA09 ,  2F064BB03 ,  2F064CC02 ,  2F064EE08 ,  2F064FF03 ,  2F064GG12 ,  2F064GG49 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ00 ,  2G086HH06 ,  2H095BA10 ,  2H095BB02 ,  2H095BC11 ,  2H095BC13 ,  2H095BE06 ,  5F046AA25 ,  5F046BA05 ,  5F046CB03 ,  5F046CB09 ,  5F046CB12 ,  5F046CB17 ,  5F046CB25 ,  5F046DA13 ,  5F046DB01 ,  5F046DC12 ,  5F046GA03 ,  5F046GA11 ,  5F046GA14 ,  5F046GB01 ,  5F046GC03 ,  5F046GD01 ,  5F046GD02 ,  5F046GD10
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (8件)
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