波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影露光装置、投影光学系の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：古谷史旺 , 森俊秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-006764
公開番号（公開出願番号）：特開2006-196699
出願日： 2005年01月13日
公開日（公表日）： 2006年07月27日
要約：

【課題】本発明は、シアリング干渉の原理を利用した波面収差測定方法において、光源の輝度を高めることなく必要な干渉縞の光量を向上させることを目的とする。【解決手段】この波面収差測定方法は、被検光学系(TO)の測定対象物点に点光源(P)を配置し、その点光源から射出した測定光束を被検光学系(TO)に通してシアリング干渉させ、生じた干渉縞を検出器(17)で検出する波面収差測定方法において、2以上の独立した点光源からなる点光源群を前記測定対象物点に配置することを特徴とする。このように点光源を増やせば、その分だけ必要な干渉縞の光量を向上させることができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被検光学系の測定対象物点に点光源を配置し、その点光源から射出した測定光束を被検光学系に通してシアリング干渉させ、生じた干渉縞を検出器で検出する波面収差測定方法において、 2以上の独立した点光源からなる点光源群を、前記測定対象物点に配置することを特徴とする波面収差測定方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G01M 11/02

FI (3件)：

H01L21/30 516A , G01M11/02 B , H01L21/30 531A

Fターム (7件)：

2G086HH06 , 5F046DA13 , 5F046DB05 , 5F046GA03 , 5F046GA14 , 5F046GB09 , 5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (1件)

波面収差計測機
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-355034 出願人：株式会社ニコン

審査官引用 (11件)

EUVリソグラフィシステムのために調整された反射型回折素子の収差測定方法および装置
公報種別：公表公報出願番号：特願2005-507696 出願人：エーエスエムエルホールディングナームローゼフェンノートシャップ
特開平3-134538
面形状計測用干渉計、波面収差測定機、前記干渉計及び前記波面収差測定機を用いた投影光学系の製造方法、及び前記干渉計の校正方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-268582 出願人：株式会社ニコン

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引用文献：

審査官引用 (2件)

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