特許
J-GLOBAL ID：200903036832231843

マスクブランク、及びマスク

発明者：
小林 英雄

小林 英雄 について


出願人/特許権者：
HOYA株式会社

HOYA株式会社 について


代理人 (1件)： 藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-105985
公開番号（公開出願番号）：特開2006-287236
出願日： 2006年04月07日
公開日（公表日）： 2006年10月19日
要約：
【課題】化学増幅型レジストを塗布したマスクブランクスにおいて、レジストパターン形成後パターン底部に発生する裾引き状突起部の発生を抑えることのできるマスクブランクス等を提供する。【解決手段】遮光性膜3上に電子線露光用化学増幅型レジスト膜4を形成し、レジストパターン4aを形成する際に、少なくとも前記遮光性膜3の表面近傍の膜密度よりも高い膜密度を有し、前記レジスト膜4の失活を抑制する失活抑制膜(図示せず)が形成されていることを特徴とするマスクブランク。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
透明基板上に遮光性膜を有するマスクブランクであって、 前記遮光性膜上に電子線露光用化学増幅型レジスト膜を形成し、レジストパターンを形成する際に、少なくとも前記遮光性膜の表面近傍の膜密度よりも高い膜密度を有し、前記レジスト膜の失活を抑制する失活抑制膜が形成されていることを特徴とするマスクブランク。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/11 ,  C23C 14/06
FI (4件)：
H01L21/30 541S ,  G03F1/16 B ,  G03F7/11 503 ,  C23C14/06 N
Fターム (26件)：
2H025AA03 ,  2H025AB20 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025DA34 ,  2H025FA17 ,  2H095BA08 ,  2H095BC04 ,  2H095BC24 ,  2H095BC26 ,  4K029AA08 ,  4K029AA24 ,  4K029BA07 ,  4K029BA21 ,  4K029BA41 ,  4K029BA43 ,  4K029BB02 ,  4K029BC00 ,  4K029BC07 ,  4K029CA05 ,  4K029DC03 ,  5F056AA06 ,  5F056FA05
引用特許：
審査官引用 (26件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM