露光方法

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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：重信和男 , 内野春喜 , 清水英雄 , 高木祐一 , 中野佳直
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-250761
公開番号（公開出願番号）：特開2007-114758
出願日： 2006年09月15日
公開日（公表日）： 2007年05月10日
要約：

【課題】立体形状へのフォトリソグラフィにおいて、最適な露光分布条件を実現する露光方法を提供する。【解決手段】立体形状へのフォトリソグラフィにおいて、レジストの高さ位置A,B,C及び膜厚分布を2次元のマトリックスに分割し、光学系の焦点の上下移動、基板の上下移動、基板形状に合わせた上下以外の移動のうちの少なくとも一つの移動を行って、フォトマスクを用いずにマトリックスごとに露光高さA’,B’,C’に合わせた焦点高さと、レジスト厚さに合わせた露光ドーズ量を用いて露光を行う。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

立体形状へのフォトリソグラフィにおいて、レジストの高さ位置及び膜厚分布を2次元のマトリックスに分割し、フォトマスクを用いずにマトリックスごとに露光高さに合わせた焦点高さと、レジスト厚さに合わせた露光ドーズ量を用いて露光を行うことを特徴とする露光方法。

IPC (1件)：

G03F 7/20

FI (1件)：

G03F7/20 501

Fターム (8件)：

2H097AA03 , 2H097AB05 , 2H097AB08 , 2H097BA01 , 2H097BB01 , 2H097CA06 , 2H097CA17 , 2H097LA15

引用特許：

審査官引用 (9件)

3次元構造体の形成装置及び形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-109606 出願人：株式会社東芝
三次元構造物形成方法および露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-116003 出願人：シャープ株式会社
マイクロレンズの製造方法、物品の製造方法、レジスト層の加工方法、および、マイクロレンズ
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-300512 出願人：株式会社ニコン

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