特許
J-GLOBAL ID：200903086321138680
表面平坦化方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
林 信之
, 安彦 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-004472
公開番号（公開出願番号）：特開2009-167030
出願日： 2008年01月11日
公開日（公表日）： 2009年07月30日
要約：
【課題】光学素子の表面粗さを更に低減可能となり、光学素子の表面形状に依存することなくその表面を平坦化させるのに好適な表面平坦化方法を提供する。【解決手段】光学素子構造体3表面に形成された凸部51を平坦化する表面平坦化方法において、塩素系ガスが導入されてなるチャンバ11内に上記光学素子構造体3を配置し、上記塩素系ガスのガス分子の吸収端波長よりも長波長からなる光を上記光学素子構造体3に照射することによって、当該光学素子構造体3表面の凸部51の局所領域に近接場光を発生させ、上記凸部51の局所領域に発生した近接場光に基づき、上記塩素系ガスを解離させて活性種を生成させ、当該生成された活性種と上記凸部とを化学反応させて反応生成物を生成させることによって、上記凸部51をエッチングすること。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
光学素子構造体表面に形成された凸部を平坦化する表面平坦化方法において、
塩素系ガスが導入されてなるチャンバ内に上記光学素子構造体を配置し、
上記塩素系ガスのガス分子の吸収端波長よりも長波長からなる光を上記光学素子構造体に照射することによって、当該光学素子構造体表面の凸部の局所領域に近接場光を発生させ、
上記凸部の局所領域に発生した近接場光に基づき、上記塩素系ガスを解離させて活性種を生成させ、
当該生成された活性種と上記凸部とを化学反応させて反応生成物を生成させることによって、上記凸部をエッチングすること
を特徴とする表面平坦化方法。
IPC (3件)：
C03C 15/02
, B82B 3/00
, C03C 15/00
C03C15/02
, B82B3/00
, C03C15/00 A
4G059AA11
, 4G059AC03
, 4G059BB01
, 4G059BB11
出願人引用 (1件)
審査官引用 (8件)
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