ポリマー及びフォトレジスト組成物

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：千田稔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-048803
公開番号（公開出願番号）：特開2002-161117
出願日： 2001年02月23日
公開日（公表日）： 2002年06月04日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】スピロサイクリックオレフィンポリマー、スピロサイクリックオレフィンポリマーの調製方法、スピロサイクリックオレフィン樹脂バインダーを含むフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】重合単位としての1以上のスピロサイクリックオレフィンモノマー及び任意に1以上のエチレン性又はアセチレン性不飽和モノマーを含むポリマーであって、そのスピロサイクリックオレフィンモノマーがオレフィン性炭素を介してポリマー骨格に結合されているポリマーであり、更に、1以上のスピロサイクリックオレフィンモノマーとパラジウム(II)重合触媒、ニケッル(II)重合触媒及びフリーラジカル重合触媒から選択される1以上の触媒を接触させる工程を含む、1以上のスピロサイクリックオレフィンモノマーを重合して、重合単位として1以上のスピロサイクリックオレフィンモノマーを含むポリマーの形成法。

請求項（抜粋）：

重合単位として1以上のスピロサイクリックオレフィンモノマー及び任意に1以上のエチレン性又はアセチレン性不飽和モノマーを含むポリマーであって、該スピロサイクリックオレフィンモノマーがオレフィン性炭素を介してポリマー骨格に結合されているポリマー。

IPC (4件)：

C08F 32/08 , C08F 4/00 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (4件)：

C08F 32/08 , C08F 4/00 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

Fターム (32件)：

2H025AA00 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025CC03 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J015BA02 , 4J015BA04 , 4J015DA23 , 4J100AR09Q , 4J100AR11Q , 4J100AR11R , 4J100AR15P , 4J100BA03Q , 4J100BA03R , 4J100BA11P , 4J100BA20R , 4J100BC03Q , 4J100BC55P , 4J100BC65P , 4J100BC66P , 4J100BC83P , 4J100BD11P , 4J100CA03 , 4J100CA05 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (12件)

レジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-302909 出願人：信越化学工業株式会社
感光性ポリマー及びそれを利用した化学増幅型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-358468 出願人：三星電子株式会社
ペンダント環式無水物基を含有するポリマーの製造法
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-603292 出願人：ザビー.エフ.グッドリッチカンパニー

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