特許
J-GLOBAL ID：200903088666389972
電子ビームの調整方法,荷電粒子光学系制御装置、及び走査電子顕微鏡
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-193288
公開番号（公開出願番号）：特開2006-019301
出願日： 2005年07月01日
公開日（公表日）： 2006年01月19日
要約：
【課題】 本発明の目的は、試料上の帯電によって生ずる荷電粒子線装置のフォーカスずれ,倍率変動,測長値誤差を低減するに好適な荷電粒子線照射方法、及び荷電粒子線装置の提供にある。【解決手段】 上記目的を達成するために本発明では、荷電粒子線の搬入機構によって搬入される試料の通過中に、試料上の電位を測定する静電電位計によって試料上の電位分布を計測する手法を提案する。また、試料上の特定箇所の局所帯電を計測し、その帯電量から大域帯電量分を分離して計測する手法を提案する。更に、特定箇所の帯電量を、少なくとも2つの荷電粒子光学条件で計測し、特定箇所の帯電量変化に伴う荷電粒子線を用いた寸法測定値の変化を計測し、この変化に基づいて測長値、或いは倍率を補正する手法を提案する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
半導体ウェハに印加する負の電圧を調整することによって、試料に照射される電子ビームのフォーカスを制御する電子ビームの調整方法において、
前記半導体ウェハ上に同心円状に分布する電位の電位分布と、前記電子ビームが照射される前記半導体ウェハ上の座標を用いて、半導体ウェハに印加する負電圧を調整することを特徴とする電子ビームの調整方法。
IPC (4件)：
H01J 37/21
, H01J 37/20
, H01L 21/66
, H01L 21/027
H01J37/21 B
, H01J37/20 Z
, H01L21/66 J
, H01L21/30 541E
4M106AA01
, 4M106BA02
, 4M106BA03
, 4M106BA14
, 4M106CA39
, 4M106DB05
, 4M106DH24
, 4M106DH33
, 4M106DJ18
, 4M106DJ20
, 5C001BB07
, 5C001CC04
, 5C033UU04
, 5C033UU05
, 5C033UU08
, 5F056BA10
, 5F056BB10
, 5F056CB32
出願人引用 (3件)
審査官引用 (10件)
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