特許
J-GLOBAL ID：200903088853505447

エバネッセント光露光マスク及びエバネッセント光露光装置

発明者：
黒田 亮

黒田 亮 について

, 
山口 貴子

山口 貴子 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-124529
公開番号（公開出願番号）：特開2000-314955
出願日： 1999年04月30日
公開日（公表日）： 2000年11月14日
要約：
【要約】【課題】 微小開口パターンから滲み出るエバネッセント光を用い、露光マスクの使用光波長と金属薄膜の厚みとの最適条件を持つ露光マスクと最適な露光時間を有する露光装置を提供する。【解決手段】 本発明のエバネッセント光露光装置は、おもて面に幅が100nm以下の微小開口パターンが形成された金属薄膜を有するマスクのおもて面を被露光物に対向して配置し、露光光源から露光用の光をマスク裏面に所定の時間照射し、微小開口パターンから滲み出るエバネッセント光により、被露光物の微小開口パターンの潜像形成と転写を行う露光装置で、 lnを 自然対数、λを露光用光波長、kを薄膜を形成する金属の消衰係数、 Aを3<A<30なる整数とし、金属薄膜の膜厚をLとする時、L=ln A・λ/2πkを満たし、Е<SB>th</SB>を被露光物の露光感度とし、露光用の光のパワーをP、露光時間をtとする時、P・t<Е<SB>th</SB>・Aを満たす。
請求項（抜粋）：
おもて面に幅が100nm以下の開口からなる微小開口パターンが形成された金属薄膜を有するマスクのおもて面を被露光物に対向して配置し、露光光源から露光用の光を該マスク裏面に照射し、該微小開口パターンから滲み出るエバネッセント光により、該被露光物の該微小開口パターンの転写を行うためのエバネッセント光露光マスクであって、lnを 自然対数、λを露光用の光の波長、kを薄膜を形成する金属の消衰係数、 Aを3<A<30なる整数とし、該金属薄膜の膜厚をLとする時、L=ln A・λ/2πkを満たすエバネッセント光露光マスク。
IPC (2件)：
G03F 1/14 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F 1/14 Z ,  H01L 21/30 502 D
Fターム (9件)：
2H095BA03 ,  2H095BB02 ,  2H095BB10 ,  2H095BB17 ,  2H095BB25 ,  2H095BC01 ,  2H095BC05 ,  5F046BA02 ,  5F046DA16
引用特許：
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (11件)
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