特許
J-GLOBAL ID：200903091135899390

化学増幅ネガ型レジスト組成物

発明者：
山田 愛理

山田 愛理 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-218421
公開番号（公開出願番号）：特開2001-042529
出願日： 1999年08月02日
公開日（公表日）： 2001年02月16日
要約：
【要約】【課題】 架橋タイプの化学増幅ネガ型レジスト組成物の経時安定性を向上させる。【解決手段】 アルカリ可溶性樹脂、放射線の作用により酸を発生する活性化合物、架橋剤、及び下式(I)(式中、R1 及びR2 は互いに独立に、炭素数1〜4のアルキルを表す)で示される2,6-ジアルキルピリジン化合物を含有する化学増幅ネガ型レジスト組成物が提供される。この組成物はさらに、下式(II)(式中、Rは、アルキル、脂環式炭化水素残基、アリール、アラルキル又はカンファー基を表し、ここにアルキルは、アルコキシ、ハロゲン若しくはニトロで置換されていてもよい)で示されるN-置換スクシンイミド化合物を含有するのが有利である。
請求項（抜粋）：
アルカリ可溶性樹脂、放射線の作用により酸を発生する活性化合物、架橋剤、及び下式(I)(式中、R1 及びR2 は互いに独立に、炭素数1〜4のアルキルを表す)で示される2,6-ジアルキルピリジン化合物を含有することを特徴とする化学増幅ネガ型レジスト組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501
FI (2件)：
G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501
Fターム (15件)：
2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB29 ,  2H025CB45 ,  2H025CB52 ,  2H025CB55 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (11件)
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