感光性重合体

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：八田幹雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-254566
公開番号（公開出願番号）：特開2001-098031
出願日： 2000年08月24日
公開日（公表日）： 2001年04月10日
要約：

【要約】【課題】 193nm以下の短波長の露光源下でも透明であり、基板に対する接着力に優れているほか、高コントラストで耐ドライエッチング性に優れている感光性重合体を提供する。【解決手段】本発明による感光性重合体は、脂環式炭化水素カルボン酸エステルに酸によって加水分解される炭素数8〜20の第三脂環式炭化水素基で置換されたモノマーと、このモノマーとラジカル重合反応を起こし得るモノマーを基本モノマーとする重合体である。

請求項（抜粋）：

炭素数8〜20の第三脂環式炭化水素基で置換された、酸によって加水分解されて脂環式炭化水素カルボン酸エステルを生じる第1モノマーと、ラジカル重合反応をし得る第2モノマーとを重合してなる感光性重合体。

IPC (8件)：

C08F220/12 , C08F220/02 , C08F220/28 , C08F222/06 , C08F232/04 , C08L 45/00 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (8件)：

C08F220/12 , C08F220/02 , C08F220/28 , C08F222/06 , C08F232/04 , C08L 45/00 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (9件)

レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-112698 出願人：富士通株式会社
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-136918 出願人：富士写真フイルム株式会社
(メタ)アクリレート、重合体、フォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-099064 出願人：日本電気株式会社

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引用文献：

審査官引用 (1件)

Carbon-Rich Cyclopolymers:Their Synthesis,Etch Resistance,and Application to 193 nm Microlithhograph

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