特許
J-GLOBAL ID：200903094106470146
データフィルタ処理を利用したリソグラフィ装置及びデバイス製造法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-089853
公開番号（公開出願番号）：特開2006-285243
出願日： 2006年03月29日
公開日（公表日）： 2006年10月19日
要約：
【課題】マスクレス・リソグラフィをより効率的に実行する装置及び方法を提供すること。【解決手段】装置及び方法は、投影システム、パターン形成装置、ローパス・フィルタ、及びデータ操作装置を含む。投影システムは、基板上に放射線のビームを放射線のサブビームのアレイとして投影する。パターン形成装置は、放射線のサブビームを変調し、基板上に要求された線量パターンを実質的に生成する。ローパス・フィルタは、要求された線量パターンから誘導されたパターン・データに対し演算を実行し、それにより、選択された閾値周波数よりも下の空間周波数成分のみを主に含む周波数クリッピングされた目標線量パターンを形成する。データ操作装置は、周波数クリッピング目標線量パターンへのスポット露光強度の直接代数的最小二乗当てはめに基づいて、パターン形成装置により生成されるスポット露光強度を含む制御信号を発生する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
リソグラフィ装置であって、
基板上に放射線のビームを放射線のサブビームのアレイとして投影する投影システムと、
放射線の前記サブビームを変調し、前記基板上に要求された線量パターンを実質的に生成するパターン形成装置であって、前記線量パターンは、前記スポット露光のうちの少なくとも隣接するスポット露光同士が互いに関して非コヒーレントに結像され、それぞれの前記スポット露光が特定の時間に放射線の前記サブビームのうちの1本により生成されるスポット露光のアレイから構成される、パターン形成装置と、
前記要求された線量パターンから誘導されたパターン・データに対し演算を実行し、それにより、選択された閾値周波数よりも下の空間周波数成分のみを主に含む周波数クリッピングされた目標線量パターンを形成する、ローパス・フィルタと、
前記周波数クリッピング目標線量パターンへの前記スポット露光強度の直接代数的最小二乗当てはめに基づいて、前記パターン形成装置により生成されるスポット露光強度を含む制御信号を発生するデータ操作装置とを備えるリソグラフィ装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/20 501
, H01L21/30 529
2H097AA03
, 2H097AB05
, 2H097BB01
, 2H097BB10
, 2H097CA12
, 2H097CA17
, 2H097GB04
, 2H097LA10
, 2H097LA12
, 5F046BA07
, 5F046CA03
, 5F046CB02
, 5F046CB18
, 5F046DA01
, 5F046DA30
