リソグラフィ用ペリクル及びその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：荒井鐘司 , 河野尚孝 , 嶋崎英一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-146828
公開番号（公開出願番号）：特開2006-323178
出願日： 2005年05月19日
公開日（公表日）： 2006年11月30日
要約：

【課題】各辺が300mm以上の大型であっても膜張力でペリクル枠が変形せず、所定の寸法仕様を満たすことのできるリソグラフィ用ペリクル及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明のペリクルは、各辺が300mm以上の長さを有するペリクル枠にペリクル膜を保持する大型ペリクルであって、該ペリクル膜がパーフルオロブテニルビニルエーテルの重合体からなる非晶質フッ素ポリマーからなり、ペリクル膜の張力が0 N/mmより大きく、2×10-2N/mm未満であることを特徴とし、パーフルオロブテニルビニルエーテルの重合体からなる非晶質フッ素ポリマーを溶媒に希釈して基板上に塗布し、180°C以上の温度で加熱して溶媒を除去した後、得られたペリクル膜を仮枠体に接着固定して基板から剥離し、その後ペリクル枠に貼り付け、仮枠体を取り外すことにより得られる。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

各辺が300mm以上の長さを有するペリクル枠にペリクル膜を保持する大型ペリクルであって、該ペリクル膜がパーフルオロブテニルビニルエーテルの重合体からなる非晶質フッ素ポリマーからなり、ペリクル膜の張力が0 N/mmより大きく、2×10-2N/mm未満であることを特徴とするリソグラフィ用ペリクル。

IPC (2件)：

G03F 1/14 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F1/14 J , G03F1/14 K , H01L21/30 502P

Fターム (4件)：

2H095BA12 , 2H095BC32 , 2H095BC36 , 2H095BC37

引用特許：

出願人引用 (6件)

特開昭58-219023号公報
米国特許第4861402号
特公昭63-27707号公報

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審査官引用 (11件)

大型ペリクル用枠体及び大型ペリクル
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-225150 出願人：旭化成電子株式会社
リソグラフィー用ペリクル
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-066075 出願人：信越化学工業株式会社
特開平3-067262

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