特許
J-GLOBAL ID:200903096194714168
マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、露光用マスクの製造方法、及び欠陥検査装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
阿仁屋 節雄
, 油井 透
, 清野 仁
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-225789
公開番号(公開出願番号):特開2007-041312
出願日: 2005年08月03日
公開日(公表日): 2007年02月15日
要約:
【課題】 被転写体へのパターン転写に影響の大きな主表面近傍の内部欠陥を含む、ガラス基板の全ての領域の内部欠陥を良好に検出できること。【解決手段】 合成石英ガラス基板4の端面2に対し離間して設置され、導入面28が平坦で鏡面研磨され、屈折率が上記ガラス基板と略同一である透光性を有する光導入補助部材25と、上記ガラス基板の端面2と光導入補助部材との間に介在され、屈折率が上記ガラス基板と略同一な超純水26と、光導入補助部材の導入面から、この光導入補助部材及び超純水を介し上記ガラス基板内へ、波長が200nm以下の短波長光を導入するレーザー照射装置21と、この短波長光により上記ガラス基板の内部欠陥16が発する、上記短波長光よりも長い波長の光15、17を受光するCCDカメラ23と、このCCDカメラが受光した光の光量に基づき、上記ガラス基板の内部欠陥を検出するコンピューター27とを有するものである。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
波長が200nm以下の短波長光を導入する導入面を有する合成石英ガラス基板を準備する準備工程と、
上記合成石英ガラス基板の導入面と、導入面が平坦であって鏡面研磨され、屈折率が上記合成石英ガラス基板と略同一である透光性を有する光導入補助手段との間に、屈折率が上記合成石英ガラス基板と略同一な溶媒を介在させ、
上記光導入補助手段の上記導入面へ導入される上記短波長光を、上記溶媒を介して上記合成石英ガラス基板の上記導入面から導入し、この合成石英ガラス基板の内部欠陥が発する、上記短波長光よりも長い波長の長波長光を受光し、この受光した長波長光の光量に基づき上記内部欠陥を検出する検出工程とを有し、
上記検出工程で内部欠陥が検出されない上記合成石英ガラス基板を用いてマスクブランク用ガラス基板を製造することを特徴とするマスクブランク用ガラス基板の製造方法。
IPC (5件):
G03F 1/08
, G01N 21/956
, H01L 21/027
, C03C 17/06
, G01N 21/958
FI (5件):
G03F1/08 S
, G01N21/956 A
, H01L21/30 502P
, C03C17/06 Z
, G01N21/958
Fターム (21件):
2G051AA56
, 2G051AA90
, 2G051AB06
, 2G051AC11
, 2G051BA05
, 2G051BA10
, 2G051BB01
, 2G051BB20
, 2G051CA04
, 2G051CA06
, 2G051CB05
, 2G051DA05
, 2G051EB01
, 2H095BC26
, 2H095BD04
, 4G059AA08
, 4G059AB06
, 4G059AB07
, 4G059AC30
, 4G059DA00
, 4G059DB02
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (15件)
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