特許
J-GLOBAL ID：200903096928891910

基板洗浄方法及び基板洗浄装置

発明者：
松村 栄治

松村 栄治 について

, 
萩原 信子

萩原 信子 について


出願人/特許権者：
萩原 信子

萩原 信子 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-073040
公開番号（公開出願番号）：特開2008-153605
出願日： 2007年03月20日
公開日（公表日）： 2008年07月03日
要約：
【課題】 基板に悪影響を与えることのない基板洗浄方法を提供する。【解決手段】 気液混合方法によって無添加生成したオゾン水を用いて基板を洗浄する基板洗浄方法において、当該オゾン水が含有するオゾン気泡の粒径Rが0<R≦50nmである ことを特徴とする。オゾン気泡の粒径が上記範囲にあるためオゾン水から浮力を受けづらい。この結果、オゾン気泡の上昇が抑制され、その結果、容易に脱気しない。容易に脱気しないことにより充分な洗浄効果を得ることのできる【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
気液混合方法によって無添加生成したオゾン水を用いて基板を洗浄する基板洗浄方法であって、 当該オゾン水が含有するオゾン気泡の粒径Rが0<R≦50nmである ことを特徴とする基板洗浄方法。
IPC (4件)：
H01L 21/304 ,  G02F 1/13 ,  G02F 1/133 ,  H05K 3/26
FI (6件)：
H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 648K ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500 ,  H05K3/26 E
Fターム (8件)：
2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  5E343AA02 ,  5E343EE02 ,  5E343GG11
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (11件)
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