特許
J-GLOBAL ID：200903097232525567

半導体製造装置用部材

発明者：
原田 良夫

原田 良夫 について

, 
寺谷 武馬

寺谷 武馬 について


出願人/特許権者：
トーカロ株式会社

トーカロ株式会社 について


代理人 (2件)： 小川 順三 ,  中村 盛夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-362629
公開番号（公開出願番号）：特開2006-118053
出願日： 2005年12月16日
公開日（公表日）： 2006年05月11日
要約：
【課題】 従来のY2O3溶射皮膜はその全てが白色に限定されていることに鑑み、この現実を打破して、基材表面に、Y2O3の黒色溶射皮膜を形成すること。【解決手段】 基材の表面に直接またはアンダーコートや中間層を介して、レーザビーム処理された、もしくは電子ビーム処理されたY2O3の黒色溶射皮膜を被覆することによって、皮膜の熱特性を改善すると共に、高硬度化による耐損傷性能を向上させる。このレーザビーム処理された、もしくは電子ビーム処理されたY2O3の黒色溶射皮膜は、白色のY2O3粉末材料を用いて実質的に酸素を含まない不活性ガス雰囲気中でプラズマ溶射するか、またY2O3の白色溶射皮膜を形成した後、この皮膜を電子ビーム照射またはレーザビーム照射することによって、白色皮膜の一部を溶融加熱して黒色化することによって製造することができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基材の表面が、Y2O3のレーザビーム処理もしくは電子ビーム処理黒色溶射皮膜によって被覆されていることを特徴とする半導体製造装置用部材。
IPC (5件)：
C23C 4/18 ,  C23C 4/10 ,  C23C 4/08 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/205
FI (5件)：
C23C4/18 ,  C23C4/10 ,  C23C4/08 ,  H01L21/302 101G ,  H01L21/205
Fターム (22件)：
4K031AA01 ,  4K031AA08 ,  4K031AB02 ,  4K031AB03 ,  4K031AB04 ,  4K031AB09 ,  4K031AB11 ,  4K031CB21 ,  4K031CB31 ,  4K031CB33 ,  4K031CB34 ,  4K031CB36 ,  4K031CB37 ,  4K031CB42 ,  4K031CB43 ,  4K031DA03 ,  4K031DA04 ,  4K031FA02 ,  5F004AA13 ,  5F004BB29 ,  5F004BD04 ,  5F045EB03
引用特許：
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (8件)
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