特許
J-GLOBAL ID：200903097742776807

アドレス・レゾリューションが改善されたパターン・ジェネレータ

発明者：
サンドストロム、トルブヨルン

サンドストロム、トルブヨルン について


出願人/特許権者：
マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット

マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット について


代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-534920
公開番号（公開出願番号）：特表2002-506235
出願日： 1999年03月02日
公開日（公表日）： 2002年02月26日
要約：
【要約】本発明は、フォトマスク、表示パネル、または、マイクロオプティカル装置などの放射に対して感度の高い加工品にパターンを生成する装置に関する。本装置は、放射源と、多数の変調素子(画素)を有する空間光変調装置(SLM)と、投射系と、該変調装置を制御する電子データ処理及び伝送システムと、前記加工品を移動するための高精度機械システムとから成る。詳しくは、画素は3つ以上の状態に設定可能であり、前記電子処理システムが、ある種類の画素マップをパターン・フィーチャーの内部に、別の種類の画素マップをフィーチャーの外部に、中間画素マップを境界線上に作成するように作られている。前記中間画素マップは、該加工品に投影されるSLMの画素に比べて微細なグリッドで前記境界線上への配置によって作成される。
請求項（抜粋）：
SLMの投影画素に比べて微細なアドレス・グリッドを有するとともに、フォトマスク、表示パネル、またはマイクロオプティカル装置などの光の放射に対して感度の高い加工品にパターンを作成する装置において、 該装置が、 超紫外線(EUV)から赤外線(IR)までの波長範囲内にある光を発光する光源と、 前記放射によって照射されるように作製された、多重の変調素子(画素)を有する空間光変調装置(SLM)と、 前記加工品に前記変調装置の画像を生成する投射系と、 書き込まれるべき前記パターンのデジタル表現を受信して、該パターンを変調装置用信号に変換し、前記信号を該変調装置に送信する電子データ処理及び伝送システムと、 前記加工品および/または前記投射系の相互に対する位置付けを行なう高精度機械システムと、 前記加工品の位置と、前記信号の前記変調装置への送信と、前記放射の強度を制御して、前記パターンを前記加工品に印刷できるようにする電子制御システムとを有し、 前記駆動信号および前記変調素子が、2よりも多く、好ましくは3よりも多い多数の変調状態を生成するようにされ、前記電子データ処理システムが、ある種類の画素マップをパターン・フィーチャーの内部に、別の種類の画素マップを該フィーチャーの外部に、中間画素マップを境界線上に作成するようにされているとともに、境界線上の前記中間画素マップが、前記加工品に投影されるSLMの画素に比べて微細なグリッドで前記境界線上の配置によって作成されることを特徴とする装置。
IPC (4件)：
G02B 26/08 ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/027 ,  G03F 1/08
FI (4件)：
G02B 26/08 E ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 1/08 Z ,  H01L 21/30 519
Fターム (16件)：
2H041AA13 ,  2H041AB14 ,  2H041AC06 ,  2H041AC08 ,  2H041AZ05 ,  2H095BA06 ,  2H095BA07 ,  2H095BB01 ,  2H097AA02 ,  2H097CA12 ,  2H097CA13 ,  2H097CA14 ,  2H097LA12 ,  2H097LA17 ,  5F046AA25 ,  5F046CB17
引用特許：
審査官引用 (11件)
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