レーザビーム均一照射光学系

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：青山葆 , 河宮治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-131615
公開番号（公開出願番号）：特開2004-272281
出願日： 2004年04月27日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：

【課題】レーザビームを分割した分割ビームを重ね合わせて照射面上に均一な強度分布を備えた照射ビームを、ビーム間の干渉を軽減して形成する光学系を提供する。【解決手段】レーザ光源からのレーザビームをビーム断面において空間的に分割ビームに分割する導波路と、分割ビームを照射面上で重ね合せて照射する重ね合せ用のレンズと、照射面上のビーム強度を均一にする遅延板とから成り、遅延板は、分割したビームの互いに隣接する隣接分割ビームの一方を他方に対して該レーザビームの時間的可干渉距離よりも長く遅延させて、上記の分割したビームのうち複数の分割ビームは互いに遅延することなく同一位相である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

レーザ光源からのレーザビームをビーム断面において空間的に分割ビームに分割するレーザビーム分割手段と、分割ビームを照射面上で重ね合せて照射する重ね合せ照射手段と、照射面上のビーム強度を均一にする均一化手段とから、成るレーザビーム均一照射光学系であって、上記の均一化手段が、上記の分割したビームの互いに隣接する隣接分割ビームの一方を他方に対して該レーザビームの時間的可干渉距離よりも長く遅延させる光学的遅延手段を含み、かつ上記の分割したビームのうち複数の分割ビームは互いに遅延することなく同一位相であることを特徴とするレーザビーム均一照射光学系。

IPC (4件)：

G02B27/09 , H01L21/20 , H01L21/268 , H01S3/00

FI (4件)：

G02B27/00 E , H01L21/20 , H01L21/268 J , H01S3/00 A

Fターム (7件)：

5F052AA02 , 5F052BA02 , 5F052BA07 , 5F052BB02 , 5F052CA04 , 5F052CA07 , 5F172ZZ20

引用特許：

出願人引用 (9件)

ビームホモジナイザ及びそれを用いた半導体薄膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-163147 出願人：住友重機械工業株式会社
ビームホモジナイザ及び半導体薄膜作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-146795 出願人：住友重機械工業株式会社
レーザ照射装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-244220 出願人：株式会社半導体エネルギー研究所

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審査官引用 (1件)

光学素子、光学装置、照明装置およびこれを具備した画像表示装置ならびに露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-154845 出願人：ソニー株式会社

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