特許
J-GLOBAL ID：200903098720419365

研磨布

発明者：
高橋 大介

高橋 大介 について


出願人/特許権者：
富士紡ホールディングス株式会社

富士紡ホールディングス株式会社 について


代理人 (1件)： 五十嵐 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-120440
公開番号（公開出願番号）：特開2006-297515
出願日： 2005年04月19日
公開日（公表日）： 2006年11月02日
要約：
【課題】被研磨物の平坦性を向上させることができ長寿命の研磨布を提供する。【解決手段】研磨パッド1は、ポリウレタンシート2を有している。ポリウレタンシート2は、研磨面側に、微多孔が形成されたスキン層2aを有しており、研磨面と反対側にナップ層2bを有している。ナップ層2bには、ナップ層2bの厚さのほぼ全体に亘る長さの発泡3と、スキン層2a側に偏った位置で発泡3より長さが小さい微細発泡4とが略均等に形成されている。発泡3及び微細発泡4の孔径は、スキン層2a側の大きさがスキン層2aの反対側より小さく形成されている。発泡3及び微細発泡4は、スキン層2aからポリウレタンシート2の厚さの少なくとも15%を超えるまで25μm以下の平均孔径が維持されている。ポリウレタンシート2が摩耗しても小さな孔径が維持される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
微多孔が形成された表面層と、前記表面層の内側に位置する発泡層とを有し、研磨加工による摩耗を許容する軟質プラスチックシートを備えた研磨布において、前記発泡層には、前記表面層側に偏って形成された第1の発泡と、前記発泡層の厚さ方向の長さが前記第1の発泡より大きい第2の発泡とが略均等に形成されており、前記第1及び第2の発泡の孔径は、前記表面層側で縮径されており、かつ、前記表面層から内側の方向に前記軟質プラスチックシートの厚さの少なくとも15%を超えるまで平均25μm以下であることを特徴とする研磨布。
IPC (2件)：
B24B 37/00 ,  B32B 5/32
FI (2件)：
B24B37/00 C ,  B32B5/32
Fターム (23件)：
3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CA05 ,  3C058CA06 ,  3C058CB01 ,  3C058CB05 ,  3C058DA17 ,  4F100AK01C ,  4F100AK01D ,  4F100AK51 ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100BA41 ,  4F100BA41B ,  4F100CA18C ,  4F100DG12D ,  4F100DG15D ,  4F100DJ00A ,  4F100DJ01B ,  4F100GB90 ,  4F100JK13C ,  4F100YY00B
引用特許：
出願人引用 (10件)
全件表示
審査官引用 (2件)

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