特許
J-GLOBAL ID：200903099074508571
テクスチャー加工された内面を有するプロセスチャンバコンポーネント及び製造の方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
長谷川 芳樹
, 山田 行一
, 鈴木 康仁
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-509488
公開番号（公開出願番号）：特表2004-522281
出願日： 2002年06月24日
公開日（公表日）： 2004年07月22日
要約：
プラズマ処理チャンバのためのドーム型エンクロージャ壁は、約150から約450までマイクロインチの粗さ平均を有する粗い表面を有する誘電材料から作られる。プラズマスプレーされたセラミックコーティングは、誘電材料の粗い表面の上で適用される。プラズマスプレーコーティングは、負値である平均歪度を有する、粗さを有するテクスチャー加工された表面を含む。エンクロージャ壁がプラズマ処理チャンバで使用されるとき、プラズマ処理チャンバで形成されるプラズマによって生成されるスパッタされた材料は、テクスチャー加工された表面に良好な粘着を有する。
請求項（抜粋）：
プラズマ処理チャンバのためのドーム型エンクロージャ壁であって、
約150〜約450マイクロインチの粗さ平均を有する粗い表面を含む誘電材料と、
前記誘電材料の粗い表面の上に堆積されたプラズマスプレーされたセラミックコーティングであって、負値である平均歪度の粗さを有するテクスチャー加工された露出表面を含むプラズマスプレーされたセラミックコーティングと、を含み
それによって、プラズマ処理チャンバでプラズマによって生成されたスパッタされた材料が、テクスチャー加工された露出表面に付着することができるエンクロージャ壁。
IPC (5件)：
H05H1/46
, C04B41/87
, H01L21/3065
, H05H1/32
, H05H1/42
H05H1/46 L
, C04B41/87 F
, H05H1/32
, H05H1/42
, H01L21/302 101H
4G075AA30
, 4G075AA57
, 4G075BC01
, 4G075BC06
, 4G075CA15
, 4G075DA02
, 4G075DA18
, 4G075EB01
, 4G075EE21
, 4G075FA05
, 4G075FB04
, 4G075FC15
, 5F004AA15
, 5F004BA01
, 5F004BB18
, 5F004DA23
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (11件)
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