特許
J-GLOBAL ID：201003011413250631

成膜装置

発明者：
田中 和史

田中 和史 について

, 
堀尾 直史

堀尾 直史 について


出願人/特許権者：
スタンレー電気株式会社

スタンレー電気株式会社 について


代理人 (2件)： 多田 公子 ,  宮川 佳三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-163461
公開番号（公開出願番号）：特開2010-003976
出願日： 2008年06月23日
公開日（公表日）： 2010年01月07日
要約：
【課題】材料溶液を完全に気化し、基板に安定供給することができる成膜装置を提供する。【解決手段】気化器409は、内部空間を有する容器900と、容器900内の空間を加熱し、霧状の材料溶液を気化させる加熱部907とを備える。霧化部408は、内部空間に向かって材料溶液と霧化支援ガスを噴出し、ヒーター908を内蔵するフィン907により霧化した材料溶液を加熱する。これにより、溶液材料を効率よく気化することができる。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
内部に基板を保持する基板保持部を備えた反応容器と、常温で液体の材料溶液と霧化支援のためのガスとを噴出することにより前記材料溶液を霧状にする霧化部と、霧状の前記材料溶液を気化させて前記反応容器に供給する気化部とを有し、 前記気化器は、内部空間を有する容器と、容器内の空間を加熱し、前記霧状の材料溶液を気化させる加熱部とを備え、 前記容器の一端には前記霧化部が備えられ、前記内部空間に向かって前記材料溶液と霧化支援ガスを噴出し、前記容器の他端には気化した前記材料溶液を前記反応容器に向かって送り出す送出口が設けられ、 前記加熱部は、前記霧化部と前記開口との間の空間に配置された1以上のフィンと、該フィンを加熱するヒーターとを備えることを特徴とする成膜装置。
IPC (3件)：
H01L 21/365 ,  C23C 16/448 ,  H01L 33/28
FI (3件)：
H01L21/365 ,  C23C16/448 ,  H01L33/00 D
Fターム (50件)：
4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030AA16 ,  4K030AA18 ,  4K030BA47 ,  4K030CA05 ,  4K030CA17 ,  4K030EA01 ,  4K030FA10 ,  4K030KA02 ,  4K030KA23 ,  4K030KA25 ,  4K030LA13 ,  5F041CA41 ,  5F041CA46 ,  5F041CA67 ,  5F045AA04 ,  5F045AA06 ,  5F045AB21 ,  5F045AB22 ,  5F045AC07 ,  5F045AC08 ,  5F045AC09 ,  5F045AC11 ,  5F045AC12 ,  5F045AC15 ,  5F045AC16 ,  5F045AC17 ,  5F045AC19 ,  5F045AD11 ,  5F045AE23 ,  5F045AF06 ,  5F045AF09 ,  5F045BB12 ,  5F045BB14 ,  5F045CA10 ,  5F045DA52 ,  5F045DA53 ,  5F045DA55 ,  5F045DA63 ,  5F045DA64 ,  5F045DA67 ,  5F045DA68 ,  5F045DP04 ,  5F045DQ10 ,  5F045EB13 ,  5F045EE02 ,  5F045EE11 ,  5F045EK07 ,  5F045HA06
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (6件)
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