特許
J-GLOBAL ID：201003020564766973

誘電体材料表面のナノ周期構造形成方法

発明者：
住吉 哲実

住吉 哲実 について


出願人/特許権者：
サイバーレーザー株式会社

サイバーレーザー株式会社 について


代理人 (2件)： 園田 吉隆 ,  小林 義教
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-325424
公開番号（公開出願番号）：特開2010-142862
出願日： 2008年12月22日
公開日（公表日）： 2010年07月01日
要約：
【課題】誘電体材料の表面改質のために超微細ナノ周期構造を形成する方法を提供する。【解決手段】紫外または可視光である第1の光ビーム5と超短パルスレーザー光である第2の光ビーム16とを被加工物である誘電体材料の表面に同時的に照射する。第1の光ビーム5の照射により誘電体材料表面に自由電子を生成し、さらに第2の光ビーム16照射により、好ましくはプラズモンを生成して、該誘電体材料表面にナノ周期構造を形成する。被加工物は、ガラス、有機ポリマー、セラミック、ダイヤモンドまたは窒化ホウ素などである。さらに、誘電体材料内または表面に金属または半導体を添加すると、表面近傍に自由電子を予め分布させ、プラズモンの生成を効率化できる。超短パルスレーザー光源出力の基本波を第2の光ビーム16、非線形光学素子などによって変換された高調波を第1の光ビーム5とする実施形態も可能である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被加工物である誘電体材料の表面に自由電子を生成するため可視光または紫外波長光である第1の光ビームを該誘電体材料表面に照射し、該自由電子の滞留中に超短パルスレーザー光である第2の光ビームを該誘電体材料表面に照射することにより、該誘電体材料表面にナノ周期構造を形成することを特徴とした誘電体材料表面のナノ周期構造形成方法。
IPC (4件)：
B23K 26/36 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/42 ,  C03C 23/00
FI (4件)：
B23K26/36 ,  B23K26/00 G ,  B23K26/42 ,  C03C23/00 D
Fターム (14件)：
4E068AH00 ,  4E068CD02 ,  4E068CD08 ,  4E068CE04 ,  4E068DA01 ,  4E068DB10 ,  4E068DB13 ,  4G059AA01 ,  4G059AA08 ,  4G059AC01 ,  4G059AC04 ,  4G059AC16 ,  4G059AC22 ,  4G059AC30
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (8件)
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