特許
J-GLOBAL ID：200903093224790736

露光方法及び装置

発明者：
前田 浩平

前田 浩平 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-162718
公開番号（公開出願番号）：特開2006-339438
出願日： 2005年06月02日
公開日（公表日）： 2006年12月14日
要約：
【課題】 スループットの低下を招かずにレチクルの面形状を正確に検出する露光方法及び装置を提供する。【解決手段】 レチクルと被露光体を同期走査しながら、前記レチクルのパターンを投影光学系を介して前記被露光体上に露光する露光方法において、前記レチクルの面形状を表す面形状データを取得するステップと、前記面形状データに基づいて前記同期走査を制御するステップとを有し、前記面形状データ取得ステップは、前記レチクルの面形状を計測するための計測位置であって異常な計測結果を有する計測位置を誤計測位置として検出するステップと、前記レチクルの面形状を前記露光時の走査速度で計測するステップとを有し、前記制御ステップは、前記誤計測位置の計測結果を含まない前記レチクルの面形状計測ステップの計測結果を前記面形状データとして使用することを特徴とする露光方法を提供する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
レチクルと被露光体を同期走査しながら、前記レチクルのパターンを投影光学系を介して前記被露光体上に露光する露光方法において、 前記レチクルの面形状を表す面形状データを取得するステップと、 前記面形状データに基づいて前記同期走査を制御するステップとを有し、 前記面形状データ取得ステップは、 前記レチクルの面形状を計測するための計測位置であって異常な計測結果を有する計測位置を誤計測位置として検出するステップと、 前記レチクルの面形状を前記露光時の走査速度で計測するステップとを有し、 前記制御ステップは、前記誤計測位置の計測結果を含まない前記レチクルの面形状計測ステップの計測結果を前記面形状データとして使用することを特徴とする露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  G01B 11/24
FI (5件)：
H01L21/30 518 ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 515F ,  H01L21/30 516A ,  G01B11/24 A
Fターム (29件)：
2F065AA00 ,  2F065AA06 ,  2F065AA17 ,  2F065AA46 ,  2F065AA65 ,  2F065CC18 ,  2F065GG07 ,  2F065HH04 ,  2F065HH12 ,  2F065HH14 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ05 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ42 ,  2F065SS09 ,  5F046BA05 ,  5F046CB17 ,  5F046CC02 ,  5F046CC09 ,  5F046DA05 ,  5F046DA13 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05 ,  5F046DB10 ,  5F046DC04 ,  5F046DC06
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (13件)
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